特許
J-GLOBAL ID：201303016997073039

プロセスユニット、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置

発明者：
森岡 昌也

森岡 昌也 について

, 
菅野 一彦

菅野 一彦 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 倉橋 暎 ,  倉橋 健太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-286356
公開番号（公開出願番号）：特開2013-134461
出願日： 2011年12月27日
公開日（公表日）： 2013年07月08日
要約：
【課題】使用開始するまで、より確実に、感光体とプロセス手段とが使用中よりも離された状態を維持することのできるプロセスユニット、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。【解決手段】プロセス手段41と、支持枠体46と、を有し、プロセス手段41が、使用中の第1の位置と、使用中よりも感光体1の表面から離された第2の位置と、をとり得るプロセスユニット4は、規制部材48と、支持部41aと、位相決め部50Lと、を有し、規制部材48は、支持受け部48aと、当接部48bと、被位相決め部48cと、を有し、感光体1が回転することにより、位相決め部50Lが規制部材48の回転方向の位置を決める力に抗して、当接部48bの感光体1又は端部部材1bへの当接状態が解除されて、プロセス手段41が上記第1の位置になる構成とする。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
回転可能な感光体に作用するプロセス手段と、前記プロセス手段を支持する支持枠体と、を有し、前記プロセス手段が、使用中の第1の位置と、使用中よりも前記感光体の表面から離された第2の位置と、をとり得るプロセスユニットにおいて、 前記プロセス手段を前記第2の位置に維持し得る規制部材と、 前記規制部材を回転可能に支持する支持部と、 前記規制部材に作用して、前記規制部材の回転方向の位置を、前記規制部材が前記プロセス手段を前記第2の位置に維持し得る位置に決める位相決め部と、 を有し、 前記規制部材は、前記支持部によって回転可能に支持される支持受け部と、前記プロセス手段を前記第2の位置に維持する際に前記感光体又は前記感光体の回転軸線方向の端部に設けられた端部部材に当接する当接部と、前記位相決め部の作用を受ける被位相決め部と、を有し、前記感光体が回転することにより、前記位相決め部が前記規制部材の回転方向の位置を決める力に抗して、前記当接部の前記感光体又は前記端部部材への当接状態が解除されて、前記プロセス手段が前記第1の位置になることを特徴とするプロセスユニット。
IPC (2件)：
G03G 15/00 ,  G03G 21/16
FI (2件)：
G03G15/00 550 ,  G03G15/00 554
Fターム (30件)：
2H171FA02 ,  2H171FA03 ,  2H171FA09 ,  2H171FA13 ,  2H171GA09 ,  2H171JA23 ,  2H171JA27 ,  2H171JA29 ,  2H171JA31 ,  2H171JA39 ,  2H171JA48 ,  2H171KA05 ,  2H171KA06 ,  2H171KA23 ,  2H171KA24 ,  2H171QA03 ,  2H171QA08 ,  2H171QA24 ,  2H171QB03 ,  2H171QB15 ,  2H171QB17 ,  2H171QC03 ,  2H171QC22 ,  2H171QC36 ,  2H171SA11 ,  2H171SA14 ,  2H171SA18 ,  2H171SA22 ,  2H171SA26 ,  2H171SA31
引用特許：
出願人引用 (7件)
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