特許
J-GLOBAL ID：201303017425360114
ウエーハ及び識別マーク形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
松本 昂
, 大上 寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-190893
公開番号（公開出願番号）：特開2013-055139
出願日： 2011年09月01日
公開日（公表日）： 2013年03月21日
要約：
【課題】 ウエーハ外周を切り落とすか又は切り欠くことなく、ウエーハの結晶方位を示す識別マークが形成されたウエーハ及び識別マーク形成方法を提供することである。【解決手段】 結晶体からなるウエーハであって、表面にデバイスが形成されるデバイス形成領域と該デバイス形成領域を囲繞する外周余剰領域とを有し、該外周余剰領域のウエーハ内部に該ウエーハの結晶方位を示す識別マークが形成されていることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
結晶体からなるウエーハであって、
表面にデバイスが形成されるデバイス形成領域と該デバイス形成領域を囲繞する外周余剰領域とを有し、
該外周余剰領域のウエーハ内部に該ウエーハの結晶方位を示す識別マークが形成されていることを特徴とするウエーハ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/02 A
, B23K26/00 B
4E068AB00
, 4E068DA10
, 4E068DB11
