特許
J-GLOBAL ID：201303021586275840
有機光学結晶のレーザー被照射耐性の評価方法および評価された有機光学結晶
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
辻丸 光一郎
, 中山 ゆみ
, 伊佐治 創
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-277340
公開番号（公開出願番号）：特開2013-076709
出願日： 2012年12月19日
公開日（公表日）： 2013年04月25日
要約：
【課題】有機光学結晶にレーザー光を照射して連続的に使用するために、あらかじめ非破壊で容易かつ簡便な有機光学結晶のレーザー被照射耐性を評価する方法を確立すること、またその評価方法によって評価されたレーザー被照射耐性を有する有機光学結晶を提供すること。【解決手段】有機光学結晶にレーザーを照射する前に回折解析工程により、有機光学結晶のレーザー被照射耐性の有無を判断する評価方法を確立することができ、またその評価方法によって評価されたレーザー被照射耐性を有する有機光学結晶を非破壊で容易かつ簡便に幅広い分野へ提供することができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
有機光学結晶の損傷の評価方法において、有機光学結晶の回折解析により、結晶の損傷の有無を評価することを特徴とする有機光学結晶の損傷の評価方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (13件)：
2G001AA01
, 2G001AA03
, 2G001AA04
, 2G001AA07
, 2G001BA18
, 2G001CA01
, 2G001CA03
, 2G001CA04
, 2G001GA13
, 2G001KA03
, 2G001KA08
, 2G001KA12
, 2G001RA03
