水蒸気バリアーフィルム、水蒸気バリアーフィルムの製造方法及び電子機器

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人光陽国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-200152
公開番号（公開出願番号）：特開2013-059927
出願日： 2011年09月14日
公開日（公表日）： 2013年04月04日
要約：

【課題】高い水蒸気バリアー性能を有するとともに、耐水性、耐熱性及び透明性及び平滑性に優れた水蒸気バリアーフィルムとその製造方法及びその水蒸気バリアーフィルムを用いた電子機器を実現する。【解決手段】基材1上に水蒸気バリアー層2と保護層3が積層された水蒸気バリアーフィルム10(11)を製造するにあたり、ポリシラザンを含有した第1の塗布液を基材1上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して水蒸気バリアー層2を形成する工程と、酢酸ブチルの蒸発速度を100とした時に、蒸発速度が40以下の第一溶媒と、蒸発速度が100以上の第二溶媒を含み、且つポリシロキサンを含有した第2の塗布液を水蒸気バリアー層2上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して保護層3を形成する工程とを経るようにして、水蒸気バリアーフィルム10(11)を作製するようにした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材上に、水蒸気バリアー層と、前記水蒸気バリアー層上に積層された保護層とを備えた水蒸気バリアーフィルムであって、前記水蒸気バリアー層は、ポリシラザンを含有した第1の塗布液を塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して形成された層であり、前記保護層は、酢酸ブチルの蒸発速度を100とした時に、蒸発速度が40以下の第一溶媒と、蒸発速度が100以上の第二溶媒を含み、且つポリシロキサンを含有した第2の塗布液を塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して形成された層であることを特徴とする水蒸気バリアーフィルム。

IPC (9件)：

B32B 9/00 , B32B 27/00 , B32B 27/16 , H05B 33/02 , H05B 33/04 , H05B 33/10 , H01L 51/50 , H01L 31/042 , G02F 1/133

FI (10件)：

B32B9/00 A , B32B27/00 101 , B32B27/16 , H05B33/02 , H05B33/04 , H05B33/10 , H05B33/14 A , H01L31/04 R , G02F1/1333 500 , G02F1/1333 505

Fターム (60件)：

2H090HA08 , 2H090HB03X , 2H090HB11X , 2H090HB17X , 2H090HC06 , 2H090JA07 , 2H090JB03 , 2H090JC07 , 2H090JD01 , 2H090JD12 , 2H090JD14 , 2H090JD18 , 2H190HA08 , 2H190HB03 , 2H190HB11 , 2H190HB17 , 2H190HC06 , 2H190JA07 , 2H190JB03 , 2H190JC07 , 2H190JD01 , 2H190JD12 , 2H190JD14 , 2H190JD18 , 3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107CC22 , 3K107CC23 , 3K107CC24 , 3K107DD19 , 3K107EE45 , 3K107FF02 , 3K107FF03 , 3K107FF06 , 3K107FF14 , 3K107FF15 , 3K107FF17 , 3K107GG28 , 4F100AA32B , 4F100AK49 , 4F100AK52B , 4F100AK52C , 4F100AT00A , 4F100BA03 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100EH46B , 4F100EH46C , 4F100EJ54B , 4F100EJ54C , 4F100EJ86B , 4F100EJ86C , 4F100GB41 , 4F100JA02A , 4F100JD04B , 4F100JN01A , 5F151BA14 , 5F151BA15 , 5F151BA18 , 5F151JA03

引用特許：

審査官引用 (7件)

フレキシブルガスバリアフィルムおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-312748 出願人：共同印刷株式会社
ガスバリアフィルム、ガスバリアフィルムの製造方法、ガスバリアフィルムを有する有機光電変換素子及び該素子を有する太陽電池
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-038450 出願人：コニカミノルタホールディングス株式会社
特願2013-520520
出願番号：特願2013-520520

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