特許
J-GLOBAL ID:201303025957248226
薄膜製造装置、薄膜製造方法、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
伊東 忠重
, 伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-106329
公開番号(公開出願番号):特開2013-235902
出願日: 2012年05月07日
公開日(公表日): 2013年11月21日
要約:
【課題】電気機械変換膜の全領域を結晶化することが可能な薄膜製造装置及び薄膜製造方法を提供する。【解決手段】薄膜製造装置は、液体を吐出し、塗膜を形成する液体吐出手段67と、前記塗膜の溶媒を蒸発させる第1のレーザ照射手段71と、溶媒を蒸発させた前記塗膜を結晶化する第2のレーザ照射手段72と、所定の固形分濃度の塗膜に前記第2のレーザ光を所定の照射時間照射した際に前記塗膜が結晶化する領域の膜厚から結晶成長に必要な時間を算出し、算出した前記結晶成長に必要な時間に基づいて、前記塗膜の全領域を結晶化できる前記固形分濃度と前記照射時間とを事前に算出し記憶している固形分濃度及び照射時間記憶手段と、前記塗膜の膜厚と光吸収率との関係から、前記塗膜の膜厚に対応する前記第1のレーザ光及び第2のレーザ光のレーザパワーを事前に算出し記憶しているレーザパワー記憶手段と、を有する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
成膜対象物上に液体を吐出し、塗膜を形成する液体吐出手段と、
前記塗膜に第1のレーザ光を照射し、前記塗膜の溶媒を蒸発させる第1のレーザ照射手段と、
溶媒を蒸発させた前記塗膜に第2のレーザ光を照射し、溶媒を蒸発させた前記塗膜を結晶化する第2のレーザ照射手段と、
所定の固形分濃度の塗膜に前記第2のレーザ光を所定の照射時間照射した際に前記塗膜が結晶化する領域の膜厚から結晶成長に必要な時間を算出し、算出した前記結晶成長に必要な時間に基づいて、前記塗膜の全領域を結晶化できる前記固形分濃度と前記照射時間とを事前に算出し記憶している固形分濃度及び照射時間記憶手段と、
前記塗膜の膜厚と光吸収率との関係から、前記塗膜の膜厚に対応する前記第1のレーザ光及び前記第2のレーザ光の各々のレーザパワーを事前に算出し記憶しているレーザパワー記憶手段と、を有し、
前記液体吐出手段は、前記固形分濃度及び照射時間記憶手段から前記固形分濃度の値を入手し、前記固形分濃度の液体を吐出して前記塗膜を形成し、
前記第1のレーザ照射手段は、前記レーザパワー記憶手段から前記塗膜の膜厚に対応する前記第1のレーザ光のレーザパワーの値を入手し、前記塗膜の膜厚に対応するレーザパワーにより、前記塗膜に前記第1のレーザ光を照射し、
前記第2のレーザ照射手段は、前記固形分濃度及び照射時間記憶手段から前記照射時間の値を入手すると共に、前記レーザパワー記憶手段から前記塗膜の膜厚に対応する前記第2のレーザ光のレーザパワーの値を入手し、前記塗膜の膜厚に対応するレーザパワーにより、前記塗膜に前記照射時間だけ前記第2のレーザ光を照射する薄膜製造装置。
IPC (9件):
H01L 41/39
, H01L 21/316
, B41J 2/055
, B41J 2/045
, B41J 2/16
, H01L 41/09
, H01L 41/18
, H01L 41/22
, H01L 21/31
FI (9件):
H01L41/22 A
, H01L21/316 P
, B41J3/04 103A
, B41J3/04 103H
, H01L41/08 C
, H01L41/08 J
, H01L41/18 101Z
, H01L41/22 Z
, H01L21/31 A
Fターム (18件):
2C057AG12
, 2C057AP16
, 2C057BA04
, 2C057BA14
, 4G048AA03
, 4G048AB02
, 4G048AC01
, 4G048AD02
, 4G048AE08
, 5F045AB40
, 5F045BB12
, 5F045EB19
, 5F045HA18
, 5F058BC03
, 5F058BF46
, 5F058BH01
, 5F058BH20
, 5F058BJ10
引用特許:
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