特許
J-GLOBAL ID：201303028488837745
ガス供給部材、プラズマ処理装置およびイットリア含有膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-018418
公開番号（公開出願番号）：特開2013-084997
出願日： 2013年02月01日
公開日（公表日）： 2013年05月09日
要約：
【課題】プラズマ耐性の高いイットリアを含む材料でコーティング膜を形成した場合でも、イットリア粒子の脱粒やクラックなどによるコーティング膜の劣化を抑えることができる保護膜を提供する。【解決手段】本発明の一つの実施形態によれば、ガス供給部材41は、第1の径を有し、ガス流方向に延伸するガス流路421と、ガス流路421の一方の端部に接続され、ガス供給部材41のガス流の下流側の面41Aに設けられる吐出口422と、を有するガス供給路42を備える。吐出口422を構成する面の少なくとも一部の面は曲面によって構成される。また、吐出口422を構成する面上と、ガス供給部材41の下流側の面41A上とにイットリア含有膜50を備える。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
第1の径を有し、ガス流方向に延伸するガス流路と、前記ガス流路の一方の端部に接続され、ガス供給部材のガス流の下流側の面に設けられる吐出口と、を有するガス供給路を備え、
前記吐出口を構成する面の少なくとも一部の面は曲面によって構成され、
前記吐出口を構成する面上と、前記ガス供給部材の前記下流側の面上とにイットリア含有膜を備えることを特徴とするガス供給部材。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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