特許
J-GLOBAL ID:201003096282961630

ガス供給部材及びプラズマ処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 別役 重尚 ,  村松 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-266111
公開番号(公開出願番号):特開2010-045407
出願日: 2009年11月24日
公開日(公表日): 2010年02月25日
要約:
【課題】ガスを滞留させることなくチャンバ内に供給することができるガス供給部材を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置10が備えるチャンバ11に配置されるガス供給部材であるガス導入シャワーヘッド32は、チャンバ11の内部空間に対向する平面と、この平面と直交するように穿孔された複数のガス穴が連結されたスリット35aを備える。スリット35aの前記平面における外縁部は、噴出されたガスの流れに対応する斜面を有する。前記スリットは前記平面上において同心円状に形成され、前記斜面は平面及び曲面の少なくともいずれかを含む。【選択図】図10
請求項(抜粋):
プラズマ処理装置が備えるチャンバに配置されるガス供給部材であって、前記チャンバの内部空間に対向する平面と、前記平面と直交するように穿孔された複数のガス穴とを備え、前記複数のガス穴から前記内部空間にガスを供給するガス供給部材において、 前記複数のガス穴のうち隣接する前記ガス穴の前記平面における外縁部が連結されてスリットが形成され、 前記スリットの前記平面における外縁部は、前記ガス穴から噴出されたガスの流れに対応する斜面を有すると共に、前記スリットは前記平面上において同心円状に形成され、 前記斜面は、平面及び曲面の少なくともいずれかを含むことを特徴とするガス供給部材。
IPC (1件):
H01L 21/306
FI (2件):
H01L21/302 101L ,  H01L21/302 101B
Fターム (3件):
5F004BA04 ,  5F004BB28 ,  5F004BC03
引用特許:
審査官引用 (10件)
全件表示

前のページに戻る