特許
J-GLOBAL ID：201303028679354957

現像液の精製方法、精製現像液、及びレジストパターン形成方法

発明者：
古川 泰一

古川 泰一 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (8件)： 天野 一規 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  石田 耕治 ,  各務 幸樹 ,  根木 義明 ,  川端 和也 ,  塩谷 隆嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-043567
公開番号（公開出願番号）：特開2013-218308
出願日： 2013年03月05日
公開日（公表日）： 2013年10月24日
要約：
【課題】レジストパターンの現像欠陥の発生を抑制し、半導体デバイス製造の歩留まりを向上させることができる現像液の精製方法を提供する。【解決手段】本発明は、化学増幅型レジスト組成物を用いてネガ型のパターンを形成する方法に用いられる有機溶媒を主成分とする現像液の精製方法である。この精製方法は、孔径0.05μm以下の濾材(I)を有する濾過装置を用い、上記現像液を上記濾過装置内で循環させることによって、上記濾材(I)を2回以上通過させるものである。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
化学増幅型レジスト組成物を用いてネガ型のパターンを形成する方法に用いられ、かつ有機溶媒を主成分とする現像液の精製方法であって、 孔径0.05μm以下の濾材(I)を有する濾過装置を用い、 上記現像液を上記濾過装置内で循環させることによって、上記濾材(I)を2回以上通過させることを特徴とする現像液の精製方法。
IPC (4件)：
G03F 7/32 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/32 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 569E
Fターム (37件)：
2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096EA05 ,  2H096GA03 ,  2H096GA60 ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF22P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AH16 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM27P ,  2H125AM91P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN64P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  5F146LA12 ,  5F146LA18 ,  5F146LA19
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM