パターン形成方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (18件)：蔵田昌俊 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 勝村紘 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓 , 市原卓三 , 山下元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-188639
公開番号（公開出願番号）：特開2012-047896
出願日： 2010年08月25日
公開日（公表日）： 2012年03月08日
要約：

【課題】欠陥密度の小さいパターンを形成可能とするパターン形成方法を提供する。【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(a)化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、(b)前記膜を露光することと、(c)第1有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでおり、前記現像液は、粒径が0.3μm以上のパーティクルの密度が30個/mL以下である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、 (b)前記膜を露光することと、 (c)第1有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んだパターン形成方法であって、前記現像液は、粒径が0.3μm以上のパーティクルの密度が30個/mL以下であるパターン形成方法。

IPC (4件)：

G03F 7/32 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F7/32 , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , H01L21/30 502R , H01L21/30 569E , G03F7/32 501

Fターム (35件)：

2H096AA25 , 2H096BA06 , 2H096EA03 , 2H096EA05 , 2H096EA23 , 2H096FA01 , 2H096GA03 , 2H096GA60 , 2H096JA03 , 2H125AF17P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AH14 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ66X , 2H125AM22P , 2H125AM23P , 2H125AM99P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC17 , 2H125FA05 , 5F046LA12 , 5F146LA12

引用特許：

審査官引用 (12件)

ネガ型現像用レジスト組成物、これを用いたパターン形成方法、レジスト膜、及び、パターン
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-282310 出願人：富士フイルム株式会社
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、現像液及びリンス液
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-103932 出願人：富士フイルム株式会社
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-325915 出願人：富士フイルム株式会社

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引用文献：

審査官引用 (1件)

最新レジスト材料ハンドブック, 20050929, 第294頁、第295頁

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