特許
J-GLOBAL ID:201303033429530303

放射源

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-190410
公開番号(公開出願番号):特開2013-070040
出願日: 2012年08月30日
公開日(公表日): 2013年04月18日
要約:
【課題】ノズルの内面に堆積される燃料の汚染の結果である予期しないまたは意図的でない障害または制限の影響を未然に防ぐかまたは軽減することができるシステムおよび方法を提供する。【解決手段】本発明の第1態様によると、燃料の体積を保持するように構成されたリザーバと、リザーバと流体接続されており、かつ燃料の流れを軌道に沿ってプラズマ形成配置に向かって誘導するように構成されたノズルと、レーザ放射をプラズマ形成配置における流れに誘導して使用中に放射生成プラズマを生成するように構成されたレーザと、ノズル出口の上流で放射源の燃料流路に配置された汚染フィルタアセンブリとを含む放射源が提供される。汚染フィルタアセンブリのフィルタ媒体は、フィルタ媒体を少なくとも部分的に囲う1つ以上の物体によって提供されるクランプ力によって汚染フィルタアセンブリ内の適切な位置で保持される。【選択図】図5
請求項(抜粋):
燃料の体積を保持するリザーバと、 前記リザーバと流体接続されており、かつ前記燃料の流れを軌道に沿ってプラズマ形成配置に向かって誘導するノズルと、 レーザ放射を前記プラズマ形成配置における前記流れに誘導して放射生成プラズマを生成するレーザ放射アセンブリと、 ノズル出口の上流で前記放射源の燃料流路に配置された汚染フィルタアセンブリであって、前記汚染フィルタアセンブリのフィルタ媒体は、前記フィルタ媒体を少なくとも部分的に囲う1つ以上の物体によって提供されるクランプ力によって前記汚染フィルタアセンブリ内の適切な位置で保持される、汚染フィルタアセンブリと を含む、放射源。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  H05G 2/00
FI (2件):
H01L21/30 531S ,  H05G1/00 K
Fターム (9件):
4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AB20 ,  4C092AC09 ,  4C092EE12 ,  5F146GA21 ,  5F146GA24 ,  5F146GC12 ,  5F146GC14
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る