特許
J-GLOBAL ID:201003047874489983

極端紫外光源装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人ウィルフォート国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-004105
公開番号(公開出願番号):特開2010-199560
出願日: 2010年01月12日
公開日(公表日): 2010年09月09日
要約:
【課題】本発明の極端紫外光源装置は、溶融状態のターゲット物質に接触する面が、ターゲット物質によって侵食され、ターゲット物質と反応したり、削られたりするのを抑制する。【解決手段】ターゲット発生部120は、ドロップレット状の溶融した錫をターゲット201として、チャンバ101内に噴射する。ノズル部121及びタンク部122の各面のうち、溶融状態の錫に接触する箇所には、錫に対する耐侵食性を有する保護膜が形成される。あるいは、溶融状態の錫に接触する部分は、耐侵食性及び耐熱性等を備える材料から形成される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ターゲットにレーザ光を照射して極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置であって、 チャンバと、 ターゲット物質から前記ターゲットを生成し、生成された前記ターゲットを前記チャンバ内に供給するターゲット発生部と、 前記チャンバ内の前記ターゲットにレーザ光を照射することにより、前記極端紫外光を発生させるレーザ光源と、 を備え、 前記ターゲット発生部は、前記ターゲット物質に接触する所定の領域が、前記ターゲット物質について耐侵食性と耐腐食性を有する 極端紫外光源装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  H05G 2/00
FI (2件):
H01L21/30 531S ,  H05G1/00 K
Fターム (10件):
4C092AA06 ,  4C092AA10 ,  4C092AA15 ,  4C092AB19 ,  4C092AC09 ,  4C092BD13 ,  4C092BD18 ,  4C092BD19 ,  4C092BD20 ,  5F046GC03
引用特許:
審査官引用 (7件)
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