特許

J-GLOBAL ID：201303046668705152

光反応器

発明者： コリオス,グリゴリオス ,  パトカス,フロリナ,コリナ ,  シンドラー,ゲツ-ペーター ,  シーバー,アレクサンドラ ,  ヴァテルス,ゲリット
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア
代理人 (1件)： 江藤 聡明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-529222
公開番号（公開出願番号）：特表2013-504420
出願日： 2010年09月13日
公開日（公表日）： 2013年02月07日
要約：

【課題】光触媒活性材料及び光源からの光ができる限り完全に利用される光触媒反応を実施するための反応器を提供すること。【解決手段】上記課題は、液体又はガス流の光触媒処理のための反応器であって、処理されるべき前記液体又はガス流が通過する管を含み、 その管内に、少なくとも1個の光源、少なくとも一種の光触媒活性材料を備える少なくとも1個の平面手段M1、及び前記少なくとも1個の光源より放射される放射線を反射する少なくとも1個の平面手段M2が配置され、 光源から射出される光が少なくとも1個の手段M2により光触媒活性材料で反射するように、少なくとも1個の平面手段M2の反射面と前記管の内壁との角度が0°以上にされていることを特徴とする反応器によって解決される。【選択図】1

請求項（抜粋）：

液体又はガス流の光触媒処理のための反応器であって、 処理されるべき前記液体又はガス流が通過する管を含み、 前記管内に、少なくとも1個の光源、少なくとも一種の光触媒活性材料を備える少なくとも1個の平面手段M1、及び前記少なくとも1個の光源より放射される放射線を反射する少なくとも1個の平面手段M2が配置され、 光源から射出される光が少なくとも1個の手段M2により光触媒活性材料で反射するように、少なくとも1個の平面手段M2の反射面と前記管の内壁との角度が0°以上にされていることを特徴とする反応器。

IPC (6件)：

B01J 19/12 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/72 ,  B01D 53/86 ,  B01J 35/02 ,  B01J 35/04

FI (8件)：

B01J19/12 C ,  C02F1/30 ,  C02F1/72 Z ,  C02F1/72 101 ,  B01D53/36 J ,  B01J35/02 J ,  B01J35/04 301Z ,  B01J35/04 331Z

Fターム (75件)：

4D037AA11 ,  4D037AB08 ,  4D037AB11 ,  4D037AB12 ,  4D037AB14 ,  4D037AB16 ,  4D037AB17 ,  4D037BA16 ,  4D037CA11 ,  4D048AC10 ,  4D048BA07X ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4D048BB07 ,  4D048CA07 ,  4D050AA12 ,  4D050AB12 ,  4D050AB14 ,  4D050AB16 ,  4D050AB17 ,  4D050AB19 ,  4D050AB22 ,  4D050AB26 ,  4D050AB31 ,  4D050AB34 ,  4D050AB35 ,  4D050AB52 ,  4D050BB01 ,  4D050BB02 ,  4D050BB04 ,  4D050BB05 ,  4D050BB08 ,  4D050BB09 ,  4D050BB13 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4G075AA03 ,  4G075AA13 ,  4G075AA15 ,  4G075AA37 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075CA32 ,  4G075CA54 ,  4G075CA57 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB33 ,  4G075FA02 ,  4G075FA03 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G169AA03 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA48A ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA05 ,  4G169DA06 ,  4G169EA18 ,  4G169EB11 ,  4G169FA01 ,  4G169FB67 ,  4G169HA01 ,  4G169HB01 ,  4G169HC26 ,  4G169HE02 ,  4G169HE03 ,  4G169HE05 ,  4G169HF00 ,  4G169HF02 ,  4G169HF05

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 脱臭装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-075179   出願人：アトム環境サイエンス有限会社
• 汚水処理方法および処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-145663   出願人：株式会社クボタ
• 廃ガス浄化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-112434   出願人：株式会社日立製作所, 日立プラント建設株式会社
• 光触媒モジュール、その製造方法、光触媒反応装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-106182   出願人：三井造船株式会社
• 空気浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-183929   出願人：株式会社デンソー