特許
J-GLOBAL ID：201303048757029180
プラズマ加工装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
市東 篤
, 市東 禮次郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-588789
特許番号：特許第4714309号
出願日： 1999年12月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】ガス入口と基板のための支持体とを有する室内にプラズマを発生させる手段、エッチステップと蒸着ステップとを交互に実施するエッチ及び蒸着手段、並びに事実上ラジカル数密度に影響を与えることなくプラズマからのイオン束を減衰および/または均一化させるための減衰手段を有し、当該減衰手段が、前記交互に実施するエッチステップと蒸着ステップとの間で磁場による減衰能力が変わるように制御される電磁場生成手段を備えていることを特徴とするプラズマ加工装置。
IPC (4件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, B01J 19/08 ( 200 6.01)
, C23C 16/505 ( 200 6.01)
, H01J 37/32 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 C
, B01J 19/08 H
, C23C 16/505
, H01J 37/32
