特許
J-GLOBAL ID：201303051495313834
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-545188
公開番号（公開出願番号）：特表2013-516055
出願日： 2010年11月19日
公開日（公表日）： 2013年05月09日
要約：
リソグラフィ装置において、放射を瞳ファセットミラー上の選択可能位置に誘導する複数の可動ファセットを含む視野ミラーを用いて、照明モードを設定する。基本照明モードは、所定の照明モードのセットから選択され、可動ファセットは、該モードを生じさせるように設定される。結像パラメータを調整するために、可動ファセットの一部を別々の位置に設定する。どのファセットを別々の位置に設定するかは、各ファセットを各位置に設定する効果を合計することによって決まる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
パターンをパターニングデバイスから基板上に投影するリソグラフィ装置用の、放射ビームを調整しかつ該放射ビームを該パターニングデバイス上に誘導するように構成された照明システムであって、
第1反射コンポーネントおよび第2反射コンポーネントであって、該第1反射コンポーネントは前記放射ビームの放射を該第2反射コンポーネント上に誘導するように配置され、該第1反射コンポーネントは各可動反射エレメントが照明モードを変化させるように少なくとも第1位置と第2位置との間で移動可能な複数の可動反射エレメントを備え、該第2反射コンポーネントは前記パターニングデバイスの瞳面と関連する、第1反射コンポーネントおよび第2反射コンポーネントと、
所定の照明モードのセットから選択された所望の照明モードをもたらすために前記複数の可動反射エレメントをそれぞれの所望の位置に設定し、またさらに前記可動反射エレメントのうちの少なくとも1つを所望の位置とは異なる補正位置に設定して結像パラメータの調整をもたらす制御システムと、を備える、照明システム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5F146GA21
, 5F146GA27
, 5F146GB11
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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