特許

J-GLOBAL ID：201303059170662230

熱処理装置、温度制御システム、熱処理方法、温度制御方法及びその熱処理方法又はその温度制御方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体

発明者： 吉井 弘治 ,  山口 達也 ,  王 文凌 ,  齋藤 孝規
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-199621
公開番号（公開出願番号）：特開2013-062361
出願日： 2011年09月13日
公開日（公表日）： 2013年04月04日
要約：

【課題】ある方向に沿って延在する容器を冷却する際に、電力消費量を増加させることなく、延在する方向に沿って容器の冷却速度に差が発生することを抑制できる熱処理装置を提供する。【解決手段】処理容器65と、処理容器65内で、一の方向に沿って基板を所定の間隔で複数保持可能な基板保持部44と、処理容器65を加熱する加熱部63と、気体を供給する供給部91と、一の方向に沿って各々が互いに異なる位置に設けられた複数の供給口92aとを含み、供給部91が供給口92aの各々を介して処理容器65に気体を供給することによって処理容器65を冷却する冷却部90とを有する。冷却部90は、供給口92aの各々を介して気体を供給する供給流量が独立に制御可能に設けられたものである。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基板を熱処理する熱処理装置において、 処理容器と、 前記処理容器内で、一の方向に沿って基板を所定の間隔で複数保持可能な基板保持部と、 前記処理容器を加熱する加熱部と、 気体を供給する供給部と、前記一の方向に沿って各々が互いに異なる位置に設けられた複数の供給口とを含み、前記供給部が前記供給口の各々を介して前記処理容器に気体を供給することによって前記処理容器を冷却する冷却部と を有し、 前記冷却部は、前記供給部が前記供給口の各々を介して気体を供給する供給流量が独立に制御可能に設けられたものである、熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/205

FI (6件)：

H01L21/31 E ,  H01L21/22 511A ,  H01L21/22 501N ,  H01L21/22 511Q ,  H01L21/31 ,  H01L21/205

Fターム (20件)：

5F045AA03 ,  5F045AA06 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AD12 ,  5F045AE01 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045DP28 ,  5F045DQ05 ,  5F045EC01 ,  5F045EF03 ,  5F045EJ04 ,  5F045EJ06 ,  5F045EJ10 ,  5F045EK06 ,  5F045EM08 ,  5F045EN04 ,  5F045GB05 ,  5F045GB15

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-053690   出願人：光洋リンドバーグ株式会社
• 熱処理装置及び冷却方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-221697   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平3-224217
  
• 熱処理装置の降温レート制御方法および熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-252249   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-065820
  
• 高速熱処理炉の温度制御方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-168615   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社