放射能汚染物の化学除染方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：鹿股俊雄 , 志村博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-204682
公開番号（公開出願番号）：特開2013-064696
出願日： 2011年09月20日
公開日（公表日）： 2013年04月11日
要約：

【課題】放射線取り扱い施設における構造材に付着した放射能汚染物を短時間で効率的に除去する。【解決手段】除染対象物の表面に付着した放射能汚染物を酸化工程と還元工程により除去する放射能汚染物の化学除染方法において、前記還元工程の除染液の酸化還元電位を0mV〜250mVに制御する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

除染対象物の表面に付着した放射能汚染物を酸化工程と還元工程により除去する放射能汚染物の化学除染方法において、前記還元工程の除染液の酸化還元電位を0mV〜250mVに制御することを特徴とする放射能汚染物の化学除染方法。

IPC (1件)：

G21F 9/28

FI (1件)：

G21F9/28 525D

引用特許：

審査官引用 (6件)

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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