化学洗浄装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：波多野久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-057032
公開番号（公開出願番号）：特開2002-257985
出願日： 2001年03月01日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】化学洗浄中に必要最低限の鉄濃度が維持できなくなった場合、鉄イオンを溶出させ、または系統内の鉄イオン濃度を上げることにより、適切な鉄濃度を維持しながら化学洗浄を実施することができるようにする。【解決手段】放射線取扱施設にて使用される配管、機器等の構造物を洗浄対象物1とし、この洗浄対象物1に洗浄液循環系4を接続して化学薬品を含む洗浄液3を循環させ、構造物表面の酸化皮膜を化学的に洗浄する化学洗浄装置であり、洗浄液循環系4の一部に洗浄対象物1の母材金属腐食を抑制する腐食抑制用ライン21を設け、この腐食抑制用ライン21は、洗浄液循環系4の洗浄液循環配管5に接続された炭素鋼または低合金鋼を含むライン23として構成され、これらの炭素鋼または低合金鋼を洗浄液に接触可能とした。

請求項（抜粋）：

放射線取扱施設にて使用される配管、機器等の構造物を洗浄対象物とし、この洗浄対象物に洗浄液循環系を接続して化学薬品を含む洗浄液を循環させることにより、前記構造物表面の酸化皮膜を化学的に洗浄する化学洗浄装置において、前記洗浄液循環系の一部に前記洗浄対象物の母材金属腐食を抑制する腐食抑制用ラインを設け、この腐食抑制用ラインは、前記洗浄液循環系の洗浄液循環配管に接続された炭素鋼または低合金鋼を含むラインとして構成され、かつ、これらの炭素鋼または低合金鋼を前記洗浄液に接触可能としたものであることを特徴とする化学洗浄装置。

IPC (3件)：

G21F 9/28 521 , G21F 9/28 525 , C23G 1/04

FI (3件)：

G21F 9/28 521 D , G21F 9/28 525 Z , C23G 1/04

Fターム (10件)：

4K053PA02 , 4K053QA01 , 4K053QA07 , 4K053RA14 , 4K053RA63 , 4K053SA07 , 4K053TA15 , 4K053XA24 , 4K053XA50 , 4K053ZA10

引用特許：

審査官引用 (8件)

化学除染方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-276023 出願人：株式会社東芝
沸騰水型原子力発電プラント及びその水質制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-256510 出願人：株式会社日立製作所, 日立エンジニアリング株式会社
特開昭61-245093

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