特許
J-GLOBAL ID：201303066491623739

誘導結合プラズマ処理方法および誘導結合プラズマ処理装置

発明者：
佐藤 亮

佐藤 亮 について

, 
齊藤 均

齊藤 均 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-024311
公開番号（公開出願番号）：特開2013-162034
出願日： 2012年02月07日
公開日（公表日）： 2013年08月19日
要約：
【課題】所望の処理分布で誘導結合プラズマ処理を行うこと。【解決手段】高周波電力が供給されて外側誘導電界を形成する渦巻き状をなす外側アンテナと、外側アンテナの内側に同心状に設けられ、高周波電力が供給されて内側誘導電界を形成する渦巻き状をなす内側アンテナとを有する高周波アンテナを備えた誘導結合プラズマ処理装置により、内側アンテナに相対的に大きな電流値の電流を流して内側アンテナに対応する部分に形成した内側誘導電界により局所的なプラズマを生成して処理を行う第1の処理と、外側アンテナに相対的に大きな電流値の電流を流して前記外側アンテナに対応する部分に形成した外側誘導電界により局所的なプラズマを生成して処理を行う第2の処理とを、時間を異ならせて実施し、処理終了時点で基板に対して所望の処理分布が得られるようにする。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板を収容してプラズマ処理を施す処理室と、 前記処理室内で基板が載置される載置台と、 前記処理室内に処理ガスを供給する処理ガス供給系と、 前記処理室内を排気する排気系と、 前記処理室内に基板に対応して平面的に配置され、誘導結合プラズマを生成するための高周波アンテナを有するアンテナユニットと、 前記高周波アンテナに高周波電力を供給する高周波電力供給手段と を具備し、 前記高周波アンテナは、高周波電力が供給されて外側誘導電界を形成する渦巻き状をなす外側アンテナと、前記外側アンテナの内側に同心状に設けられ、高周波電力が供給されて内側誘導電界を形成する渦巻き状をなす内側アンテナとを有する誘導結合プラズマ処理装置を用いて基板に対して誘導結合プラズマ処理を行う誘導結合プラズマ処理方法であって、 前記内側アンテナと前記外側アンテナのぞれぞれに流す電流の比較において、前記内側アンテナに相対的に大きな電流値の電流を流して前記内側アンテナに対応する部分に形成した前記内側誘導電界により局所的なプラズマを生成して処理を行う第1の処理と、前記外側アンテナに相対的に大きな電流値の電流を流して前記外側アンテナに対応する部分に形成した前記外側誘導電界により局所的なプラズマを生成して処理を行う第2の処理とを、時間を異ならせて実施し、処理終了時点で基板に対して所望の処理分布が得られるようにすることを特徴とする誘導結合プラズマ処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/306 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/31
FI (3件)：
H01L21/302 101C ,  H05H1/46 L ,  H01L21/31 C
Fターム (11件)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BD04 ,  5F004CA03 ,  5F004EA28 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EH11 ,  5F045EH19
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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