特許
J-GLOBAL ID：201003046244883393
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
大山 浩明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-108752
公開番号（公開出願番号）：特開2010-258324
出願日： 2009年04月28日
公開日（公表日）： 2010年11月11日
要約：
【課題】プラズマ電位が低く,より安定した高密度のプラズマを容易に形成し,プラズマ処理の均一性をより簡単かつ的確に制御する。【解決手段】処理室102内でウエハを載置する載置台110と,載置台に対向するように板状誘電体104を介して配設された内側アンテナ素子142Aと外側アンテナ素子142Bとからなる平面状の高周波アンテナ140と,高周波アンテナを覆うように設けられたシールド部材160とを備え,各アンテナ素子はそれぞれ両端を開放するとともに中点又はその近傍を接地し,それぞれ別々の高周波電源からの高周波の1/2波長で共振するように構成した。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
減圧された処理室内に処理ガスの誘導結合プラズマを生成することにより被処理基板に所定のプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって,
前記処理室内に設けられ,前記被処理基板を載置する載置台と,
前記処理室内に前記処理ガスを導入するガス供給部と,
前記処理室内を排気して減圧する排気部と,
前記載置台に対向するように板状誘電体を介して配設された平面状の高周波アンテナと,
前記高周波アンテナを覆うように設けられたシールド部材と,を備え,
前記高周波アンテナは,前記板状誘電体上の中央部に配置した内側アンテナ素子と,その外周を囲むように前記板状誘電体上の周縁部に配置した外側アンテナ素子とからなり,これらのアンテナ素子はそれぞれ両端を開放するとともに中点又はその近傍を接地し,それぞれ別々の高周波電源からの高周波の1/2波長で共振するように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/306
, H01L 21/205
, C23C 16/505
, H05H 1/46
H01L21/302 101C
, H01L21/205
, C23C16/505
, H05H1/46 L
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030FA04
, 4K030KA30
, 4K030LA15
, 5F004AA01
, 5F004BD01
, 5F004BD04
, 5F004DA00
, 5F004DA11
, 5F004DA23
, 5F004DA26
, 5F004DB02
, 5F004DB03
, 5F004DB12
, 5F045AA08
, 5F045EH02
, 5F045EH11
, 5F045EH20
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (13件)
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