特許
J-GLOBAL ID：200903066486440739
誘導結合プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-139042
公開番号（公開出願番号）：特開2007-311182
出願日： 2006年05月18日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：
【課題】アンテナを交換することなく、装置コストおよび電力コストを高くすることなく、かつ高精度のプラズマ密度分布制御を行うことができる誘導結合プラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】処理室4の上方に誘電体壁2を介して、高周波電力が供給されることにより処理室4内の主に外側部分に誘導電界を形成する外側アンテナ部13aと主に内側部分に誘導電界を形成する内側アンテナ部13bとを有する高周波アンテナ13を配置し、外側アンテナ部13aと内側アンテナ部13bの一方に可変コンデンサ21を接続し、可変コンデンサ21の容量を調節することにより外側アンテナ部13aおよび内側アンテナ部13bの電流値を制御し、処理室4内に形成される誘導結合プラズマのプラズマ密度分布を制御する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理基板を収容してプラズマ処理を施す処理室と、
前記処理室内で被処理基板が載置される載置台と、
前記処理室内に処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
前記処理室内を排気する排気系と、
前記処理室の外部に誘電体部材を介して配置され、高周波電力が供給されることにより前記処理室内にそれぞれ異なる電界強度分布を有する誘導電界を形成する複数のアンテナ部を有する高周波アンテナと、
前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つに接続され、その接続されたアンテナ回路のインピーダンスを調節するインピーダンス調節手段と
を具備し、
前記インピーダンス調節手段によるインピーダンス調節により、前記複数のアンテナ部の電流値を制御し、前記処理室内に形成される誘導結合プラズマのプラズマ密度分布を制御することを特徴とする誘導結合プラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, H01L 21/306
, C23C 16/505
H05H1/46 L
, H01L21/302 101C
, C23C16/505
4K030CA06
, 4K030FA01
, 4K030KA30
, 4K030LA18
, 5F004AA01
, 5F004DA00
, 5F004DA26
, 5F004DB00
, 5F004DB10
, 5F004DB26
出願人引用 (1件)
-
特許第3077009号公報(図5、段落0026〜0028)
審査官引用 (8件)
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