特許
J-GLOBAL ID：200903086803878983
処理装置および半導体装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
山本 秀樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-093484
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297798
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：
【要約】【課題】 槽内の使用中の燐酸を、循環濾過経路部とフッ酸を用いる燐酸再生装置で再生する処理装置において、燐酸再生装置側へ回収する回収時及び回収量を自動化し易くかつ燐酸中の不純物を低減したり一定に維持可能にする。【解決手段】 ウエハ1を熱燐酸により処理する溢流部3a付エッチング槽3と、溢流部3aに溢流した燐酸を槽外に導いて濾過、加熱及び純水を添加して槽3内へ戻す循環濾過経路部5と、循環濾過経路部5から分岐配管60を介し取り出された燐酸にフッ酸を加え加熱処理する燐酸再生装置6と、燐酸再生装置6で再生された燐酸を槽3に補給する補給配管67aとを備えた処理装置を対象としている。改良点は、分岐配管60を循環濾過経路部5の燐酸を濾過する濾過部52の手前に設け、燐酸再生装置6側へ分岐する燐酸の量を濾過部52へ流れる循環液圧に応じ制御可能な流量調節手段(圧力計とニードル弁等)を有している。
請求項（抜粋）：
半導体ウエハを熱燐酸によってエッチング処理する溢流部付のエッチング槽と、前記溢流部に溢流した燐酸をエッチング槽外に導いて濾過、加熱及び純水を添加してエッチング槽内へ戻す循環濾過経路部と、前記循環濾過経路部から分岐配管を介し取り出された燐酸にフッ酸を加えて加熱処理する燐酸再生装置と、前記燐酸再生装置で再生された燐酸を前記エッチング槽に補給する補給配管とを備えている処理装置において、前記分岐配管を前記循環濾過経路部の燐酸を濾過する濾過部の手前に設け、前記燐酸再生装置側へ分岐する燐酸の量を前記濾過部へ流れる循環液圧に応じ制御可能な流量調節手段を有していることを特徴とする処理装置。
Fターム (13件)：
5F043AA35
, 5F043BB23
, 5F043DD07
, 5F043EE01
, 5F043EE21
, 5F043EE22
, 5F043EE23
, 5F043EE25
, 5F043EE27
, 5F043EE28
, 5F043EE29
, 5F043EE30
, 5F043EE31
