特許
J-GLOBAL ID：201303078479092661

ポジ型レジスト組成物

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
坂本 宏

坂本 宏 について

, 
向井 優一

向井 優一 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-051741
公開番号（公開出願番号）：特開2012-252316
出願日： 2012年03月08日
公開日（公表日）： 2012年12月20日
要約：
【課題】良好なラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることができるポジ型レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(I)で表される化合物とを含むポジ型レジスト組成物。[式中、R1は、ヒドロキシ基、アルキル基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基、脂環式及び芳香族炭化水素基はヒドロキシ基又はアルキル基で置換されていてもよい;X1は、2価の飽和炭化水素基を表し、2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい;R2は飽和炭化水素基;u1は0〜2の整数、s1は1又は2、t1は0又は1、但し、s1+t1は1又は2である。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(I)で表される化合物とを含むポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/26
FI (4件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/26
Fターム (48件)：
2H125AE07P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AH05 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN11P ,  2H125AN30P ,  2H125AN32P ,  2H125AN33P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN51P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN74P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BA15T ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100BC84Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (4件)
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