特許
J-GLOBAL ID：201303079513761540

載置台機構及びこれを用いたプラズマ処理装置

発明者：
古屋 敦城

古屋 敦城 について

, 
東条 利洋

東条 利洋 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-065598
公開番号（公開出願番号）：特開2013-175740
出願日： 2013年03月27日
公開日（公表日）： 2013年09月05日
要約：
【課題】チャック電極に直流電圧を印加する際及び遮断する際のチャック等価回路の時定数を小さくして、電荷の貯留及び電荷の放出をそれぞれ迅速に行うようにした載置台機構を提供する。【解決手段】処理容器52内でプラズマ処理が施される被処理体Wを載置する載置台機構において、載置台84と、内部にチャック電極114が設けられた静電チャック86と、給電ライン116を介して接続された直流高圧電源120と、給電ラインに介設したチャック用スイッチ部124と、載置台の直流成分を検出する直流成分検出回路96と、直流成分検出回路をバイパスするバイパスライン108と、バイパスラインの途中に介設して直流成分検出回路をバイパスさせて載置台を接地させるバイパス用スイッチ部110と、スイッチ部を制御するスイッチ制御部112とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空排気が可能になされた処理容器内に設けられて、高周波電力によって生成したプラズマを用いて所定のプラズマ処理が施される被処理体を載置する載置台機構において、 前記被処理体を載置するための導電部材よりなる載置台と、 前記載置台の上面に配置されて前記被処理体を吸着するために内部にチャック電極が設けられた静電チャックと、 前記チャック電極に静電気力を発生させる直流電圧を印加するために給電ラインを介して接続された直流高圧電源と、 前記給電ラインの途中に介設されて前記被処理体を吸着するときに閉じられるチャック用スイッチ部と、 前記載置台に、前記プラズマ処理時に前記載置台に加わる直流成分を検出するために接続された直流成分検出回路と、 前記直流成分検出回路をバイパスするバイパスラインと、 前記バイパスラインの途中に介設されて前記チャック用スイッチ部を閉状態に切り替える時及び開状態に切り替える時に前記直流成分検出回路をバイパスさせて前記載置台を接地させるバイパス用スイッチ部と、 2つの前記スイッチ部を制御するスイッチ制御部と、 を備えたことを特徴とする載置台機構。
IPC (4件)：
H01L 21/683 ,  C23C 16/458 ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/306
FI (4件)：
H01L21/68 R ,  C23C16/458 ,  C23C16/509 ,  H01L21/302 101G
Fターム (39件)：
4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030EA11 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030KA17 ,  4K030KA18 ,  4K030KA28 ,  4K030KA30 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB22 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004CA06 ,  5F131AA02 ,  5F131AA03 ,  5F131AA32 ,  5F131BA01 ,  5F131BA19 ,  5F131BA22 ,  5F131CA32 ,  5F131CA68 ,  5F131DA02 ,  5F131DA33 ,  5F131DA42 ,  5F131EA03 ,  5F131EB16 ,  5F131EB17 ,  5F131EB24 ,  5F131EB72 ,  5F131EB78
引用特許：
審査官引用 (4件)
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