形状記憶材料を含む材料の加工方法およびその装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森下賢樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-523172
公開番号（公開出願番号）：特表2013-500864
出願日： 2010年08月06日
公開日（公表日）： 2013年01月10日
要約：

材料の所定部分に制御された方法でエネルギを印加して、前記所定部分の局所的な化学的性質を変えて所定の結果を提供するステップを備えることを特徴とする材料の処理方法。前記材料が形状記憶材料の場合には、前記所定の結果は、前記形状記憶材料の所定部分に付加的な記憶を提供するか、あるいは、前記形状記憶材料の擬弾性特性を変えることであってもよい。必ずしも形状記憶材材料に限定されない別の例では、前記プロセスは、表面の成分濃度を調節して前記材料の前記表面に酸化被膜を形成し耐食性を提供するため、前記材料から汚染物質を除去するため、表面テクスチャを調節するため、あるいは前記材料中に少なくとも1つの付加的な相粒子を生成し、次に前記材料を強化できる粒子成長用の核形成サイトを提供するため、に用いられてもよい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

材料の所定部分に制御された方法でエネルギを印加して、前記所定部分の局所的な化学的性質を変えて所定の結果を提供するステップを備えることを特徴とする材料の処理方法。

IPC (3件)：

B23K 26/00 , B01J 19/12 , C22F 1/10

FI (5件)：

B23K26/00 E , B23K26/00 G , B23K26/00 M , B01J19/12 F , C22F1/10 G

Fターム (18件)：

4E068AH00 , 4E068CA03 , 4E068CA11 , 4E068CA15 , 4E068CA17 , 4E068DB02 , 4G075AA27 , 4G075AA30 , 4G075AA61 , 4G075BA05 , 4G075BA06 , 4G075BB07 , 4G075CA03 , 4G075CA36 , 4G075CA51 , 4G075DA02 , 4G075FA11 , 4G075FC09

引用特許：

審査官引用 (10件)

光学放出分光工程監視及び材料特性測定
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-028522 出願人：ウェーハマスターズ・インコーポレイテッド
形状記憶合金部材及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-106587 出願人：古河電気工業株式会社
接点用酸化被膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-133039 出願人：オムロン株式会社

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