波面収差に対する応答を調整したパターン設計の方法及びシステム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-148374
公開番号（公開出願番号）：特開2013-021321
出願日： 2012年07月02日
公開日（公表日）： 2013年01月31日
要約：

【課題】本発明は、パラメータの変動に対して非常に感度が高く、従って複数のフィーチャを有するターゲット設計を結像するために使用されるリソグラフィプロセスの較正におけるランダムで反復的な測定誤差に対して頑健であるゲージパターンを設計する方法及びシステムに関する。【解決手段】該方法は、最も感度が高い線幅/ピッチと、最適のアシストフィーチャ配置と、の組合せを識別することを含むことができ、これは波面収差パラメータの変動などのリソグラフィプロセスパラメータの変動に対して最も感度が高いCD(又は他のリソグラフィ応答パラメータ)の変化につながる。該方法は、波面関連の又は他のリソグラフィプロセスのパラメータに対して特定の応答を生成するためにゲージの組合せ応答を調整できるように、複数のテストパターンを有するゲージを設計することも含むことができる。パラメータの変動に対するこの感度は、ランダム測定誤差及び/又は他のいかなる測定誤差に対しても頑健な性能につながる。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

投影リソグラフィシステムにより結像されるテストパターンのセットを設計する方法であって、前記テストパターンのセットは、前記投影リソグラフィシステムの予め定義された波面収差項に関連するリソグラフィ応答パラメータを含み、前記予め定義された波面収差項は波面収差の特徴を数学的に表し、当該方法は、 a)前記予め定義された波面収差項の関数として、前記リソグラフィ応答パラメータの近似として数学級数展開を生成するステップと、 b)前記数学級数展開から選択された展開項のセットを選択するステップと、 c)前記選択された展開項を含む費用関数を生成するステップと、 d)前記未選択の展開項の少なくとも一部を実質的にゼロに抑制しながら、前記テストパターンのセットの前記パラメータを定義する費用関数を解くステップと、を含む、方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 1/36

FI (3件)：

H01L21/30 516A , H01L21/30 515Z , G03F1/36

Fターム (8件)：

2H095BB02 , 2H095BB36 , 2H095BC09 , 2H095BE06 , 5F146AA25 , 5F146AA28 , 5F146CB45 , 5F146DA13

引用特許：

審査官引用 (7件)

収差測定方法および収差測定用フォトマスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-355747 出願人：株式会社東芝
ステッパレンズの収差測定パターンおよびステッパレンズの収差特性評価方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-250468 出願人：沖電気工業株式会社
露光装置判定システム、露光装置判定方法、露光装置判定プログラム及び半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-234053 出願人：株式会社東芝

全件表示

前のページに戻る