特許
J-GLOBAL ID：201003034725738879
露光条件決定方法およびコンピュータプログラム
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-181977
公開番号（公開出願番号）：特開2010-021443
出願日： 2008年07月11日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：
【課題】露光条件をより短時間で決定するための技術を提供する。【解決手段】投影光学系の物体面に配置された原版を照明光学系によって照明して前記投影光学系の像面に像を形成することによって前記像面に配置された基板を露光する露光装置において使用される露光条件を決定する露光条件決定方法は、露光条件を変更しながら、現在の露光条件において前記像面に形成される像を計算する像計算ステップと、前記像計算ステップで計算された像の線幅を評価する評価ステップとを含む処理を繰り返して実行することによって、露光条件を決定すること、および、前記像計算ステップで計算された像の簡易評価値を計算し、前記簡易評価値が許容値を満たす場合には前記像計算ステップで計算された像について前記評価ステップを実行させた後に露光条件を変更して前記処理を再び実行させ、前記簡易評価値が前記許容値を満たさない場合には前記評価ステップを実行させることなく露光条件を変更して前記処理を再び実行させることを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
投影光学系の物体面に配置された原版を照明光学系によって照明して前記投影光学系の像面に像を形成することによって前記像面に配置された基板を露光する露光装置において使用される露光条件を決定する露光条件決定方法であって、
露光条件を変更しながら、現在の露光条件において前記像面に形成される像を計算する像計算ステップと、前記像計算ステップで計算された像の線幅を評価する評価ステップとを含む処理を繰り返して実行することによって、露光条件を決定すること、および、
前記像計算ステップで計算された像の簡易評価値を計算し、前記簡易評価値が許容値を満たす場合には前記像計算ステップで計算された像について前記評価ステップを実行させた後に露光条件を変更して前記処理を再び実行させ、前記簡易評価値が前記許容値を満たさない場合には前記評価ステップを実行させることなく露光条件を変更して前記処理を再び実行させること、
を含むことを特徴とする露光条件決定方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5F046AA17
, 5F046BA04
, 5F046DA01
, 5F046DA02
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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