特許
J-GLOBAL ID：201303087928556553

保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法

発明者：
山本 一

山本 一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (2件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-219915
公開番号（公開出願番号）：特開2013-058761
出願日： 2012年10月01日
公開日（公表日）： 2013年03月28日
要約：
【課題】基板を搬入する動作、基板を保持する動作、及び基板を搬出する動作等の少なくとも一つの動作を高速に実行することが可能でデバイスの生産性の向上に寄与できる保持装置を提供する。【解決手段】パターンが形成される基板を保持する保持面を有する保持部材と、電圧の印加に応じて、基板を保持面に吸着するための静電力を発生させる複数の第1電極部材と、印加する電圧を調整可能な電源装置と、を備え、パターンの形成動作が進行中の基板上の第1ショット領域に対応する一つの第1電極部材に第1電圧を印加し、パターンの形成動作が終了した基板上の第1ショット領域に対応する一つの第1電極部材に、第1電圧よりも低い電圧を印加し、基板上の第1ショット領域とは異なる領域にパターンの形成動作を進行している間、基板上の第1ショット領域に対応する第1電極部材を第1電圧よりも低い電圧に維持する保持装置。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
パターンが形成される基板を保持する保持面を有する保持部材と、 前記保持部材に設けられるとともに、前記パターンに関するパターン情報に応じて配置され、電圧の印加に応じて、前記基板を前記保持面に吸着するための静電力を発生させる複数の第1電極部材と、 前記複数の第1電極部材に印加する前記電圧を調整可能な電源装置と、を備え、 前記電源装置は、前記パターンの形成動作が進行中の前記基板上の第1ショット領域に対応する少なくとも一つの前記第1電極部材に第1電圧を印加し、前記パターンの形成動作が終了した前記基板上の第1ショット領域に対応する少なくとも一つの前記第1電極部材に、前記第1電圧よりも低い電圧を印加し、 前記基板上の第1ショット領域とは異なる第2ショット領域に前記パターンの形成動作を進行している間、前記基板上の第1ショット領域に対応する少なくとも一つの前記第1電極部材を前記第1電圧よりも低い電圧に維持する保持装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/683 ,  H02N 13/00 ,  B23Q 3/15
FI (7件)：
H01L21/30 503C ,  H01L21/30 515G ,  H01L21/30 531A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 R ,  H02N13/00 D ,  B23Q3/15 D
Fターム (32件)：
3C016GA10 ,  5F131AA02 ,  5F131BA13 ,  5F131CA32 ,  5F131CA68 ,  5F131DA33 ,  5F131DA42 ,  5F131DB06 ,  5F131DD76 ,  5F131EA02 ,  5F131EA22 ,  5F131EB15 ,  5F131EB17 ,  5F131EB24 ,  5F131EB72 ,  5F131EB78 ,  5F131EB79 ,  5F131FA17 ,  5F131FA37 ,  5F131KA12 ,  5F131KA16 ,  5F131KA17 ,  5F131KA44 ,  5F131KB06 ,  5F131KB53 ,  5F146CC08 ,  5F146CC13 ,  5F146DC11 ,  5F146GA03 ,  5F146GA04 ,  5F146GA11 ,  5F146GA21
引用特許：
審査官引用 (4件)
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