光学シアリングのシステムと方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：北澤一浩 , 小泉伸 , 市川朗子 , 牛田竜太
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-513809
公開番号（公開出願番号）：特表2013-543647
出願日： 2011年05月29日
公開日（公表日）： 2013年12月05日
要約：

【課題】マスクレスリソグラフィシステムの印刷品質特性を改善及び/又は調節するためのシステム及び方法を提供する。【解決手段】空間変調光ビームの少なくとも1つの部分を、変調光ビームの第2の部分に対して、2つのサブ露光領域の中心・中心間距離より小さい量でクロス走査方向にシアリングする工程と、シアリングした空間変調光ビームで走査方向に表面を露光する工程と、走査結果としてクロス走査方向に露光されたサブ領域をオーバーラップさせる工程とを含む。【選択図】図5A

請求項（抜粋）：

感光性表面上にパターンを露光する方法において、イメージデータの行と列からなる矩形マトリックスパターンを含む空間変調光ビームを表面上に形成する工程であって、前記空間変調光ビームは前記表面の隣接するサブ露光領域の露光が操作可能であり、各サブ露光領域が前記イメージデータの1つのデータと関連する工程と、前記表面を露光するために、前記空間変調光ビームの行と列のうちの1つを走査方向に整列させ、前記空間変調光ビームの行列のうちの他方をクロス走査方向に整列させる工程と、前記変調光ビームの少なくとも1つの部分を、前記変調光ビームの第2の部分に対して、2つのサブ露光領域の中心・中心間距離より小さい量でクロス走査方向にシアリングする工程と、シアリングした空間変調光ビームで走査方向に前記表面を露光する工程と、スキャニングの結果としてクロス走査方向に露光されたサブ領域をオーバーラップさせる工程と、を有することを特徴とする方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/30 529 , G03F7/20 501

Fターム (5件)：

2H097GB04 , 2H097LA10 , 2H097LA11 , 5F146CB34 , 5F146DA43

引用特許：

審査官引用 (6件)

マルチビーム露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-272388 出願人：富士写真フイルム株式会社
マルチビーム露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-272390 出願人：富士写真フイルム株式会社
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-133407 出願人：富士写真フイルム株式会社

全件表示

前のページに戻る