特許
J-GLOBAL ID：201303094108250227

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法

発明者：
山本 慶

山本 慶 について

, 
三枝 浩

三枝 浩 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 高松 猛 ,  尾澤 俊之 ,  長谷川 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-281421
公開番号（公開出願番号）：特開2013-101370
出願日： 2012年12月25日
公開日（公表日）： 2013年05月23日
要約：
【課題】液浸露光時に於ける液浸液に対する後退接触角の更なる改善及びウォーターマーク欠陥の低減が可能な液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】(A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、及び、(D)下記一般式(S1)〜(S3)で表される群より選択される少なくとも1種の溶剤を全溶剤中3〜20質量%含有する混合溶剤、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記(A)〜(D)を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 (A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、及び、 (D)下記一般式(S1)〜(S3)のいずれかで表される群より選択される少なくとも1種の溶剤を含有し、該溶剤の総量が全溶剤中の3〜20質量%である混合溶剤。
IPC (5件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/38 ,  C08F 20/00 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/38 501 ,  C08F20/00 510 ,  H01L21/30 502R
Fターム (64件)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  2H125AF17P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ16Y ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ92Y ,  2H125AM12P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM30P ,  2H125AM32P ,  2H125AM45P ,  2H125AM66P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN65P ,  2H125AN84P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (14件)
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引用文献：
審査官引用 (2件)
  • REGISTRY(STN)、Megafac F 170, 20140411
  • REGISTRY(STN)

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