特許
J-GLOBAL ID：200903087964547932

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
三枝 浩

三枝 浩 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-151869
公開番号（公開出願番号）：特開2007-322660
出願日： 2006年05月31日
公開日（公表日）： 2007年12月13日
要約：
【課題】ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)一般式(I)で表される繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)一般式(I)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (7件)
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