特許

J-GLOBAL ID：201303096771262355

珪素化合物、縮合物およびそれを用いたレジスト組成物、ならびにそれを用いるパターン形成方法

発明者： 山中 一広 ,  小川 毅
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 楊井 清志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-238210
公開番号（公開出願番号）：特開2013-129649
出願日： 2012年10月29日
公開日（公表日）： 2013年07月04日
要約：

【課題】アルコキシシラン等の加水分解性の珪素化合物を原料に用いて、簡便に合成が可能であり、同一分子内にアルコキシ基等の加水分解性基と高エネルギー線の照射により解離して酸を発生する光酸発生基を有する珪素化合物を提供する。【解決手段】一般式(1):R1nAmSiB4-(n+m)(1)(式(1)中、R1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の直鎖状、炭素数3〜20の分枝鎖または環状の炭化水素基であり、当該炭化水素基の炭素原子が酸素原子に置換されていてもよく、フッ素原子を含んでいてもよい。Aは、酸分解性基であり、Bは加水分解基であり、nは0〜2の整数であり、mは1〜3の整数であり、n+mは、1〜3の整数である。)で表される、珪素化合物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一般式(1): R1nAmSiB4-(n+m) (1) (式中、R1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の直鎖状、炭素数3〜20の分枝鎖または環状の炭化水素基であり、当該炭化水素基の炭素原子が酸素原子に置換されていてもよく、フッ素原子を含んでいてもよい。 Aは酸分解性基であり、 Bは加水分解基であり、 nは0〜2の整数であり、mは1〜3の整数であり、n+mは1〜3の整数である。) で表される、珪素化合物。

IPC (5件)：

C07F 7/18 ,  G03F 7/075 ,  H01L 21/027 ,  C08G 77/28 ,  C07C 381/12

FI (7件)：

C07F7/18 L ,  G03F7/075 511 ,  H01L21/30 502R ,  C08G77/28 ,  C07F7/18 Q ,  C07F7/18 N ,  C07C381/12

Fターム (64件)：

2H125AF17P ,  2H125AF34P ,  2H125AF35P ,  2H125AF42P ,  2H125AF45P ,  2H125AM85P ,  2H125AN38P ,  2H125CA12 ,  2H125CB08 ,  2H125CC01 ,  2H125CC12 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ38 ,  4H049VQ54 ,  4H049VR21 ,  4H049VR22 ,  4H049VR42 ,  4H049VR43 ,  4H049VS35 ,  4H049VS44 ,  4H049VS57 ,  4H049VU24 ,  4H049VW02 ,  4J246AA03 ,  4J246BA04X ,  4J246BA040 ,  4J246BA14X ,  4J246BA140 ,  4J246BA17X ,  4J246BA170 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246CA24X ,  4J246CA240 ,  4J246CA40X ,  4J246CA400 ,  4J246CA46X ,  4J246CA460 ,  4J246CA54X ,  4J246CA540 ,  4J246CA56X ,  4J246CA560 ,  4J246CA58X ,  4J246CA580 ,  4J246CA74X ,  4J246CA740 ,  4J246CA85X ,  4J246CA850 ,  4J246CB03 ,  4J246FA071 ,  4J246FA131 ,  4J246FA421 ,  4J246FA441 ,  4J246FA461 ,  4J246FB081 ,  4J246GA01 ,  4J246GB04 ,  4J246HA15

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 電解質組成物及び非水電解質二次電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-052146   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポリシロキサン塩、電解質組成物、電気化学電池、非水二次電池及び光電気化学電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-097652   出願人：富士写真フイルム株式会社
• オニウム塩及びその潜在的酸としての使用
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-548218   出願人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
• 化学増幅型フォトレジスト組成物用の酸発生剤、その製造法及び化学増幅型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-172871   出願人：住友化学株式会社
• 新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-244193   出願人：信越化学工業株式会社
• 光活性化合物及び化学増幅型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-058584   出願人：住友化学株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Journal of Macromolecular Science, PartB: Physics, 2007, 46, pp.33-41