特許
J-GLOBAL ID:201003092029383969

化学増幅型フォトレジスト組成物用の酸発生剤、その製造法及び化学増幅型フォトレジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-172871
公開番号(公開出願番号):特開2010-053121
出願日: 2009年07月24日
公開日(公表日): 2010年03月11日
要約:
【課題】良好なパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型フォトレジスト組成物を与える酸発生剤を提供する。【解決手段】式(I)で表される化合物。[R1は、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数5〜10のアリール基等を表す。W1は、-CO-O-、-O-CO-、-CH2-O-、-O-CH2-等を表す。Q1及びQ2は、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜6のアルキル基等を表す。Aは、式(I-1)で表される基を表す。A1は、-CH2-CH2-、-CH2-CH2-CH2-、-CH=CH-又は-CH=CH-CH2-を表す。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される化合物。
IPC (10件):
C07D 207/46 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C09K 3/00 ,  C08F 20/38 ,  C07D 209/76 ,  C07D 221/14 ,  C07D 217/24 ,  C07D 405/12 ,  H01L 21/027
FI (11件):
C07D207/46 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  C09K3/00 K ,  C08F20/38 ,  C07D209/76 ,  C07D221/14 ,  C07D217/24 ,  C07D405/12 ,  H01L21/30 502R
Fターム (61件):
2H125AF53P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ55X ,  2H125AJ59X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4C034AM14 ,  4C034CG10 ,  4C063AA01 ,  4C063BB07 ,  4C063CC78 ,  4C063DD08 ,  4C063EE10 ,  4C069AC36 ,  4C069BA08 ,  4C069BC10 ,  4C069BC12 ,  4C204BB03 ,  4C204BB09 ,  4C204CB19 ,  4C204DB30 ,  4C204EB03 ,  4C204FB32 ,  4C204FB33 ,  4C204GB01 ,  4H039CA80 ,  4H039CD10 ,  4H039CD20 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA11S ,  4J100BA27S ,  4J100BA55 ,  4J100BA58P ,  4J100BB10S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC65S ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA28 ,  4J100FA19 ,  4J100GA19 ,  4J100JA38
引用特許:
審査官引用 (7件)
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