基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八田国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-069255
公開番号（公開出願番号）：特開2013-214744
出願日： 2013年03月28日
公開日（公表日）： 2013年10月17日
要約：

【課題】薬液処理の時に発生されるフュームの外部流出抑制が可能である基板処理装置及び方法が提供される。【解決手段】本発明は基板処理装置60に関し、内部に基板を洗浄する工程空間を提供する処理容器100と、工程空間内に提供され、基板を支持する基板支持部材200と、基板支持部材200に置かれる基板へ複数の処理液を選択的に噴射する噴射部材300と、を含み、処理容器100は工程空間内に処理液が流入される入口が上下方向に積層された複数の回収筒110、121、122、123と、複数の回収筒全体110、121、122、123を上下方向に移動させる第1乗降部材130と、複数の回収筒の中で一部の回収筒110を残り回収筒121、122、123に対しても上下方向へ相対移動させる第2乗降部材140と、を含む。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

内部に基板を洗浄する工程空間を提供する処理容器と、前記工程空間内に提供され、基板を支持する基板支持部材と、前記基板支持部材に置かれる基板へ複数の処理液を選択的に噴射する噴射部材と、を含み、前記処理容器は、前記工程空間内に配置され、処理液が流入される入口が上下方向に積層された複数の回収筒と、前記複数の回収筒全体を上下方向へ移動させる第1乗降部材と、前記複数の回収筒の中で一部の回収筒を残り回収筒に対しても上下方向へ相対移動させる第2乗降部材と、を含む基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (2件)：

H01L21/304 643A , H01L21/304 648K

Fターム (23件)：

5F157AB02 , 5F157AB13 , 5F157AB33 , 5F157AB48 , 5F157AB50 , 5F157AB51 , 5F157AB90 , 5F157AC26 , 5F157BB22 , 5F157BB44 , 5F157CB01 , 5F157CB14 , 5F157CE77 , 5F157CF20 , 5F157CF22 , 5F157CF32 , 5F157CF66 , 5F157CF72 , 5F157CF92 , 5F157DB51 , 5F157DC83 , 5F157DC84 , 5F157DC85

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板処理装置および基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-147859 出願人：東京エレクトロン株式会社
スピンヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-268565 出願人：セメスカンパニーリミテッド
基板液処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-128172 出願人：東京エレクトロン株式会社

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