特許
J-GLOBAL ID:201103007540599678
基板液処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
勝沼 宏仁
, 永井 浩之
, 磯貝 克臣
, 名塚 聡
, 岡田 淳平
, 森 秀行
, 堀田 幸裕
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-128172
公開番号(公開出願番号):特開2011-254019
出願日: 2010年06月03日
公開日(公表日): 2011年12月15日
要約:
【課題】鉛直方向の省スペース化が実現できる基板液処理装置のミスト回収機構を提供すること。【解決手段】ミスト案内カップの周縁端領域の上方に設けられた液体案内上部カップと、ミスト案内カップの周縁端領域に対してその下方から上方まで鉛直方向に移動可能に設けられた液体案内中央カップと、ミスト案内カップの周縁端領域に対してその下方から上方まで鉛直方向に移動可能に設けられた液体案内下部カップと、を備える。各カップの鉛直方向位置は、3つの回収状態を選択的に実現できるように制御される。各回収状態で回収される液体は、第一ドレイン用タンク乃至第三ドレイン用タンクにそれぞれ案内されるようになっている。第一ドレイン用タンク乃至第三ドレイン用タンクは、径方向に並ぶように配置されている。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
基板を保持する載置台と、
前記載置台を回転させる回転駆動部と、
前記載置台に載置される基板に液体を供給する液体供給部と、
前記載置台に載置されて回転する基板から飛散する液体を下方へ案内する液体案内カップと、
前記液体案内カップの下部に、当該液体案内カップから離間して設けられたドレイン用タンクと、
を備えたことを特徴とする基板液処理装置。
IPC (2件):
FI (3件):
H01L21/304 643A
, H01L21/304 648L
, B08B3/04 A
Fターム (30件):
3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AB34
, 3B201AB42
, 3B201BB22
, 3B201BB92
, 3B201CB01
, 3B201CD11
, 3B201CD22
, 3B201CD33
, 3B201CD35
, 5F043BB27
, 5F043EE08
, 5F043EE33
, 5F157AB02
, 5F157AB13
, 5F157AB42
, 5F157AB90
, 5F157AC01
, 5F157BB22
, 5F157CE11
, 5F157CE23
, 5F157CF20
, 5F157CF22
, 5F157CF32
, 5F157CF66
, 5F157CF72
, 5F157DB51
, 5F157DC51
, 5F157DC84
引用特許:
審査官引用 (6件)
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-011111
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
電気光学装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-315191
出願人:セイコーエプソン株式会社
-
廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-073307
出願人:三益半導体工業株式会社
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