特許

J-GLOBAL ID：201303097333496765

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 丹呉 直紘 ,  白川 三千紘 ,  藤田 光宏 ,  山口 修平 ,  渋谷 明規 ,  片岡 祥平
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (3件)： 高松 猛 ,  尾澤 俊之 ,  長谷川 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-262853
公開番号（公開出願番号）：特開2013-080240
出願日： 2012年11月30日
公開日（公表日）： 2013年05月02日
要約：

【課題】レジストパターンの裾引き形状改善に効果が有り、LER性能が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有し、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物の全固形分を基準として、10〜30質量%含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有し、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物の全固形分を基準として、10〜30質量%含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28

FI (4件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28

Fターム (108件)：

2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF22P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH03 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ13X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ55X ,  2H125AJ58X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL02 ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AL22 ,  2H125AM11N ,  2H125AM12P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM32P ,  2H125AM43N ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM91N ,  2H125AM94N ,  2H125AM99N ,  2H125AN08P ,  2H125AN21N ,  2H125AN32N ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN50N ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CD22P ,  2H125CD31 ,  2H125FA03 ,  4J100AJ02P ,  4J100AJ02S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40P ,  4J100BA40Q ,  4J100BA40R ,  4J100BB11P ,  4J100BB11S ,  4J100BC03P ,  4J100BC03R ,  4J100BC04P ,  4J100BC04R ,  4J100BC04S ,  4J100BC08P ,  4J100BC08S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC26P ,  4J100BC26R ,  4J100BC52P ,  4J100BC52Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC58P ,  4J100BC58Q ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-279146   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-099202   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-007034   出願人：JSR株式会社
• ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-004583   出願人：東京応化工業株式会社