特許
J-GLOBAL ID：200903002280618576
感放射線性樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-007034
公開番号（公開出願番号）：特開2007-058159
出願日： 2006年01月16日
公開日（公表日）： 2007年03月08日
要約：
【課題】電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適なレジスト組成物を提供する。【解決手段】スルホニルオキシイミド化合物、スルホニウム塩化合物、ヨードニウム塩化合物、およびジアゾニウム塩化合物より選ばれる少なくとも1つの化合物である感放射線性酸発生剤(A)と、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂(B)と、酸拡散制御剤(C)とを含み、EB、X線、またはEUVを用いてパターニングされるポジ型感放射線性樹脂組成物であって、上記酸解離性基含有樹脂(B)100重量部に対して、上記酸発生剤(A)が20重量部以上80重量部以下、および上記酸拡散制御剤(C)が0.1重量部以上1重量部以下含まれる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
感放射線性酸発生剤(A)と、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂(B)と、酸拡散制御剤(C)とを含み、電子線、X線、または極紫外線を用いてパターニングされるポジ型感放射線性樹脂組成物であって、
前記酸解離性基含有樹脂(B)100重量部に対して、前記感放射線性酸発生剤(A)が20重量部以上80重量部以下、および前記酸拡散制御剤(C)が0.1重量部以上1重量部以下含まれることを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
2H025AA02
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025FA12
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (5件)
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