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J-GLOBAL ID：201402272547678135   整理番号：14A0470101

酸化物担持有機保護金クラスターへの酸素プラズマ照射によるナノ粒子形成と粒径制御

著者 (6件)： 高草木達 (北大 触セ) ,  木工淳 (北大 触セ) ,  MOHAMAD NABIL Imran bin A. R. (北大 触セ) ,  上原広充 (北大 触セ) ,  有賀寛子 (北大 触セ) ,  朝倉清高 (北大 触セ)
資料名： 触媒討論会講演予稿集
巻： 113th  ページ： 255  発行年： 2014年03月10日 
JST資料番号： F1143A  ISSN： 2187-5928  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *担持触媒 ,  *金属クラスタ ,  *基 ,  *触媒担体 ,  *酸化チタン ,  *単結晶 ,  *結晶面 ,  *プラズマ ,  *プラズマ曝露 ,  ナノ粒子 ,  酸化 ,  脱保護基 ,  制御 ,  含有量 ,  芳香族化合物 ,  有機リン化合物 ,  *金クラスタ ,  *保護基 ,  *酸素プラズマ ,  金ナノ粒子 ,  サイズ制御 ,  担持量
準シソーラス用語： *プラズマ照射

分類 (4件)： 貴金属触媒  (CB06122I) ,  プラズマ一般  (BJ02010B) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  有機りん化合物  (CF08040N)

物質索引 (1件)： トリフェニルホスフィン

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸化物 ,  担持 ,  金クラスター ,  酸素プラズマ ,  粒子形成 ,  粒径制御