特許
J-GLOBAL ID：201403002100984197

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

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宮川 貴行

宮川 貴行 について

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山口 訓史

山口 訓史 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-095113
公開番号（公開出願番号）：特開2013-257539
出願日： 2013年04月30日
公開日（公表日）： 2013年12月26日
要約：
【課題】高解像度のレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、並びに、酸不安定基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式中、R1は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す;A1は、単結合、*-A2-O-、*-A2-CO-O-、*-A2-CO-O-A3-CO-O-又は*-A2-O-CO-A3-O-を表す;*は-O-との結合手を表す;A2及びA3は、それぞれ独立に、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、並びに、酸不安定基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。
IPC (9件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027 ,  C07D 313/10 ,  C07D 307/93 ,  C07D 307/33 ,  C07D 327/06
FI (9件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  C09K3/00 K ,  H01L21/30 502R ,  C07D313/10 ,  C07D307/93 ,  C07D307/32 Q ,  C07D327/06
Fターム (33件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF35P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL11 ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC17 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4C037FA10 ,  4C037UA05 ,  4C062JJ15 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB92
引用特許：
審査官引用 (5件)
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