一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えている荷電粒子システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：蔵田昌俊 , 福原淑弘 , 野河信久 , 峰隆司 , 砂川克
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-508307
公開番号（公開出願番号）：特表2014-513432
出願日： 2012年04月26日
公開日（公表日）： 2014年05月29日
要約：

本発明は、マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムに関し、一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えており、マニピュレーターデバイスは、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるための平面基板の平面中の少なくとも一つの貫通開口を備えている。各貫通開口には、前記貫通開口の周囲の第一の部分に沿った多重第一電極の第一のセットと、前記周囲の第二の部分に沿った多重第二電極の第二のセットに配された電極が設けられている。貫通開口の周囲に沿った第一および第二電極の位置に応じて電極に電圧差を供給するための電子コントロール回路が配されている。

請求項（抜粋）：

マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムであり、一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えており、前記マニピュレーターデバイスは、・平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、各貫通開口には、前記貫通開口の周囲の第一の部分に沿った多重第一電極の第一のセットと、前記周囲の第二の部分に沿った多重第二電極の第二のセットに配された電極が設けられており、また、・一つの第一電極と一つの第二電極の複数のペアに電圧差を前記貫通開口の周囲に沿った前記第一および第二電極の位置に応じて供給するために配された電子コントロール回路を備えている、荷電粒子システム。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , H01J 37/305

FI (4件)：

H01L21/30 541W , H01L21/30 541B , G03F7/20 521 , H01J37/305 B

Fターム (7件)：

5C034BB03 , 5C034BB04 , 5C034BB10 , 5F056AA07 , 5F056CB40 , 5F056EA03 , 5F056EA04

引用特許：

審査官引用 (20件)

特開平4-328236
特開平4-328236
特開昭62-088247

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