感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (14件)：蔵田昌俊 , 福原淑弘 , 中村誠 , 野河信久 , 白根俊郎 , 峰隆司 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 井関守三 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-119288
公開番号（公開出願番号）：特開2014-199389
出願日： 2013年06月05日
公開日（公表日）： 2014年10月23日
要約：

【課題】パターン倒れが少なく、露光ラチチュード、及びLWRなどのパターンラフネス特性に優れ、経時による性能の変動が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。(式中の各符号は特許請求の範囲に記載の意味を表す。)【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (15件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07C 309/17 , C07C 309/12 , C07C 309/04 , C07C 311/03 , C09K 3/00 , C07D 327/06 , C07D 279/12 , C07D 295/22 , C07D 319/18 , C07D 411/04 , C08F 20/12 , H01L 21/027 , G03F 7/038

FI (16件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , C07C309/17 , C07C309/12 , C07C309/04 , C07C311/03 , C09K3/00 T , C07D327/06 , C07D279/12 , C07D295/22 Z , C07D319/18 , C07D411/04 , C08F20/12 , H01L21/30 502R , G03F7/038 601

Fターム (97件)：

2H125AF11P , 2H125AF16P , 2H125AF17P , 2H125AF20P , 2H125AF22P , 2H125AF27P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF41P , 2H125AF70P , 2H125AH04 , 2H125AH12 , 2H125AH14 , 2H125AH15 , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ12X , 2H125AJ14X , 2H125AJ18X , 2H125AJ63X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ66X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AM12P , 2H125AM22N , 2H125AM22P , 2H125AM23N , 2H125AM23P , 2H125AM27P , 2H125AM32P , 2H125AM66P , 2H125AM91N , 2H125AM94N , 2H125AM99N , 2H125AM99P , 2H125AN10N , 2H125AN11N , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN54P , 2H125AN64P , 2H125AN65P , 2H125AN86P , 2H125BA01N , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA05 , 4C022KA01 , 4C036AA05 , 4C036AA13 , 4C036AA16 , 4C036AA17 , 4C063AA01 , 4C063BB02 , 4C063CC87 , 4C063DD08 , 4C063DD79 , 4C063EE10 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB99 , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03R , 4J100BA11Q , 4J100BA15Q , 4J100BA40Q , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC09R , 4J100BC52Q , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100CA03 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-003702 出願人：富士写真フイルム株式会社
感光性ポリシアヌレート・フォトレジストおよびその製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-242987 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-051745 出願人：住友化学株式会社

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