特許
J-GLOBAL ID：201403012294567147

グラフェン積層体の形成方法

発明者：
石原 正統

石原 正統 について

, 
山田 貴壽

山田 貴壽 について

, 
長谷川 雅考

長谷川 雅考 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-170157
公開番号（公開出願番号）：特開2014-028721
出願日： 2012年07月31日
公開日（公表日）： 2014年02月13日
要約：
【課題】 従来の転写方法の課題である、グラフェンの特性がバインダー層の影響を受けたり、転写の際にグラフェンがダメージを受けたりするという問題を解決し、バインダー層が無く、よりダメージの少ないグラフェン積層体を形成する手法を提供する。【解決手段】成膜用基材上にCVD法により形成したグラフェン膜を、中間媒体を用いて被転写材に転写してグラフェン積層体を製造する方法において、粘着力のある面を有すフィルム状の中間媒体を用いるとともに、該中間媒体のグラフェン面と前記被転写材とを、液中又は真空中で、両者の相互作用力が働くように貼り合わせることにより解決する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
成膜用基材上にCVD法により形成したグラフェン膜を、中間媒体を用いて被転写材に転写してグラフェン積層体を製造する方法において、 粘着力のある面を有するフィルム状の中間媒体を用い、該中間媒体の粘着力のある面を前記成膜用基材上に形成されたグラフェン膜の表面の全部及び/又は一部に圧着する工程、 前記グラフェン膜から前記成膜用基材を除去する工程、 前記中間媒体のグラフェン面と前記被転写材とを、液中又は真空中で、両者の相互作用力が働くように貼り合わせる工程、 前記中間媒体をグラフェン膜から剥がす工程、 を備えることを特徴とするグラフェン積層体の製造方法。
IPC (1件)：
C01B 31/02
FI (1件)：
C01B31/02 101Z
Fターム (13件)：
4G146AA01 ,  4G146AB05 ,  4G146AB07 ,  4G146AB10 ,  4G146BC09 ,  4G146CB02 ,  4G146CB07 ,  4G146CB12 ,  4G146CB26 ,  4G146CB29 ,  4G146CB32 ,  4G146CB37 ,  4G146CB40
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (3件)
引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM