特許
J-GLOBAL ID：201403014803424523
ステージ式のプラズマエッチング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 武和国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-035553
公開番号（公開出願番号）：特開2014-212303
出願日： 2014年02月26日
公開日（公表日）： 2014年11月13日
要約：
【課題】小さなウェハであっても精度良くエッチングすることができるプラズマエッチング装置を提供する。【解決手段】本発明は、ウェハWが設置されるステージ6と、ステージ6を覆うチャンバ5と、チャンバ5内を真空引きする真空形成装置11と、チャンバ5のステージ6に対向する位置に設けられエッチングガスGをウェハWに吹き付けるための管状のガス供給管5dと、ステージ6に設けられこのステージ6に設置されるウェハWを含む領域にプラズマを発生させてエッチングガスGをイオン化およびラジカル化させるRF印可板6dとを具備した構成とされている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ウェハが設置されるステージと、
このステージを覆うチャンバと、
このチャンバ内を真空引きする真空引き部と、
前記チャンバの前記ステージに対向する位置に設けられエッチングガスをウェハに吹き付けるための管状のガス供給部と、
前記ステージに設けられ、このステージに設置されるウェハを含む領域にプラズマを発生させてエッチングガスをイオン化およびラジカル化させるステージプラズマ発生部と、
を具備したことを特徴とするプラズマエッチング装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/302 101E
, H05H1/46 M
5F004BA03
, 5F004BA04
, 5F004BA09
, 5F004BB28
, 5F004CA05
, 5F004CA06
, 5F004DA01
, 5F004DA23
, 5F004DB02
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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