処理液供給方法、処理液供給装置及び記憶媒体

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井上俊夫 , 三井田友昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-224331
公開番号（公開出願番号）：特開2014-078562
出願日： 2012年10月09日
公開日（公表日）： 2014年05月01日
要約：

【課題】処理液供給路に新規なフィルタ部を取り付けたときに、フィルタ部から気泡を除去するために消費される処理液の削減及び立ち上げ時間の短縮を実現する技術を提供すること。【解決手段】新規なフィルタ部内に処理液を満たす工程と、次いで前記フィルタ部から気泡を除去するために当該フィルタ部内を負圧雰囲気である第1の圧力雰囲気にする工程と、その後、前記フィルタ部内を昇圧させる工程と、しかる後、前記フィルタ部の二次側を、前記第1の圧力雰囲気よりも高い第2の圧力雰囲気にした状態で、その一次側から処理液を前記フィルタ部に通液させる工程と、前記フィルタ部を通液した処理液を、ノズルを介して被処理体に供給して液処理を行う工程と、を実施する。これによって速やかに気泡を除去することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

新規なフィルタ部内に処理液を満たす工程と、次いで前記フィルタ部から気泡を除去するために当該フィルタ部内を負圧雰囲気である第1の圧力雰囲気にする工程と、その後、前記フィルタ部内が目標圧力雰囲気になるように当該フィルタ部内を前記第1の圧力雰囲気から昇圧させる工程と、しかる後、前記フィルタ部の二次側を前記第1の圧力雰囲気よりも高い第2の圧力雰囲気にした状態で、その一次側から処理液を前記フィルタ部に通液させる工程と、前記フィルタ部を通液した処理液を、ノズルを介して被処理体に供給して液処理を行う工程と、を含むことを特徴とする処理液供給方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , H01L 21/304 , B05C 11/10 , B05D 3/00

FI (4件)：

H01L21/30 564Z , H01L21/304 648F , B05C11/10 , B05D3/00 B

Fターム (17件)：

4D075AC64 , 4D075AC84 , 4D075AC97 , 4D075DA06 , 4D075DC22 , 4D075EA45 , 4F042AA07 , 4F042CA07 , 4F042CB25 , 4F042EB27 , 5F146JA03 , 5F146JA09 , 5F146JA27 , 5F157AB02 , 5F157AB90 , 5F157BB22 , 5F157CF74

引用特許：

出願人引用 (11件)

特開平2-281727
ガスベント付きフィルターカートリッジ
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-032069 出願人：日本マイクロリス株式会社
特開平4-196517

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