特許
J-GLOBAL ID：201403023725906809

インプリント装置およびインプリント転写体の製造方法

発明者：
吉田 幸司

吉田 幸司 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-035071
公開番号（公開出願番号）：特開2014-165342
出願日： 2013年02月25日
公開日（公表日）： 2014年09月08日
要約：
【課題】本発明は、微細な凹凸パターンを高精度で転写可能なインプリント装置の提供を主目的とする。【解決手段】本発明は、凹凸のパターンが形成されたテンプレートを保持するテンプレート保持手段と、被転写基板上に被転写層を形成する樹脂塗布手段と、上記被転写基板を保持するステージと、上記ステージの保持手段側端部に形成された気流制御部と、を有し、上記ステージは、上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動可能に設けられ、上記気流制御部の上面は、上記ステージの上記被転写基板が載置される面と平行であり、上記上面の位置が上記ステージの上記被転写基板が載置される面および上記テンプレート表面の間であり、上記気流制御部の上記上面からの厚みが、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなることを特徴とするインプリント装置を提供することにより上記目的を達成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
凹凸のパターンが形成されたテンプレートを保持するテンプレート保持手段と、 被転写基板上に被転写層を形成する樹脂塗布手段と、 前記被転写基板を保持するステージと、 前記ステージのテンプレート保持手段側端部に形成された気流制御部と、 を有し、 前記ステージは、前記被転写層を前記樹脂塗布手段と対向する位置から前記テンプレート保持手段に保持された前記テンプレートと対向する位置に移動可能に設けられ、 前記気流制御部の上面は、前記ステージの前記被転写基板が載置される面と平行であり、 前記上面の位置が前記ステージの前記被転写基板が載置される面および前記テンプレート表面の間であり、 前記気流制御部の前記上面からの厚みが、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなることを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
Fターム (13件)：
4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AM30 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PH27 ,  4F209PJ06 ,  4F209PN07 ,  4F209PN13 ,  4F209PN20 ,  5F146AA31 ,  5F146DA27
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM