特許
J-GLOBAL ID：201403025278682070

偏光解消素子及びその素子を用いた光学機器

発明者：
梅木 和博

梅木 和博 について


出願人/特許権者：
リコー光学株式会社

リコー光学株式会社 について


代理人 (1件)： 野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-138036
公開番号（公開出願番号）：特開2014-002286
出願日： 2012年06月19日
公開日（公表日）： 2014年01月09日
要約：
【課題】機械的な方法を用いなくてもスペックルを解消できる偏光解消素子を提供する。【解決手段】使用する光の波長に対して光透過性をもつ基材3の光入射面3a及び光出射面3bの表面に、光透過面3a,3bが領域分割された領域A1〜A8に対して領域ごとで異なった膜厚をもつ光位相差発生膜5a,5bが形成されている。図1(A)に示されるように、使用する光の波長について、光入射面3a側の光の位相差は揃っている。その光は、偏光解消素子1を透過する際、光位相差発生膜5a、基材3及び光位相差発生膜5bからなる誘電体多層膜で光の位相差が変化させられる。図1(C)に示されるように、偏光解消素子1を透過した光出射面3b側の光の位相差は領域A1〜A8で互いに異なっている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
使用する光の波長に対して光透過性をもつ基材の光透過面である光入射面及び光出射面の一方又は両方の表面に、前記光透過面が領域分割された領域に対して領域ごとで異なった膜厚をもつ光位相差発生膜が形成されていることを特徴とする偏光解消素子。
IPC (5件)：
G02B 5/30 ,  G02B 5/00 ,  G02B 5/04 ,  G02B 27/48 ,  B41J 2/44
FI (5件)：
G02B5/30 ,  G02B5/00 Z ,  G02B5/04 ,  G02B27/48 ,  B41J3/00 D
Fターム (15件)：
2C362BA04 ,  2C362BA84 ,  2C362DA28 ,  2H042AA02 ,  2H042AA03 ,  2H042AA04 ,  2H042AA19 ,  2H042AA24 ,  2H042CA01 ,  2H042CA11 ,  2H042CA17 ,  2H149AA22 ,  2H149AB01 ,  2H149BA06 ,  2H149FA42W
引用特許：
審査官引用 (4件)
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