特許
J-GLOBAL ID：200903080693723441
レーザビームのスペックル低減方法及びその装置、及びリソグラフィ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-198073
公開番号（公開出願番号）：特開2001-060550
出願日： 2000年06月30日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：
【要約】【課題】 レーザ共振器の設計とは無関係に、レーザビームの空間的コヒーレンスを制して精密な制御を可能にする装置及び方法を提供すること。【解決手段】 レーザビームのスペックルは、スペックル防止装置をビーム経路中に挿入し、時間的コヒーレンスを維持しながら空間的コヒーレンスを分裂させることによって低減される。一実施形態においては、スペックル防止装置は、周期的な光学的コーティングを帯びた位相リターダープレートである。コーティングされた、及びコーティングされていない領域を通ったビームの透過あるいは反射は、第2のビーム部分に関連した第1のビーム部分の内部位相シフトを引き起こし、これによって空間的コヒーレンスを分裂させる。コーティングされた領域のサイズ及び厚みは、ステッパやスキャナ装置の製造業者の要求を満たすように、ビーム横断面を横切る許されうる最少数のコヒーレントセルとして表わされる、許しうる最大の空間的コヒーレンスに、入念に調節される。
請求項（抜粋）：
レーザビームの時間的コヒーレンスが実質的に変化しないよう維持されると共に、前記レーザビームの空間的コヒーレンスが分裂されるように、前記レーザビームの第2の部分と関連している前記レーザビームの第1の部分の位相をシフトするステップを具備することを特徴とするレーザビームのスペックル低減方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 502
H01L 21/30 515 B
, G03F 7/20 502
