特許
J-GLOBAL ID：201103030212762628
偏光解消素子及びその素子を用いた光学機器
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-007656
公開番号（公開出願番号）：特開2011-180581
出願日： 2011年01月18日
公開日（公表日）： 2011年09月15日
要約：
【課題】様々な偏光状態を作り出せる偏光解消素子を提供する。【解決手段】基板表層部に構造性複屈折をもつ複数のサブ波長構造体領域が互いに隣接して配置されている。サブ波長構造体領域は使用する光の波長よりも短い周期で繰り返して配列された溝をもち、それらの溝の配列方向である光学軸方向が隣接するサブ波長構造体領域間で異なる部分をもつように配置されている。さらに、この偏光解消素子はそれらの溝として深さの異なるものを含んでいる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板の表層部に構造性複屈折をもつ複数のサブ波長構造体領域が互いに隣接して配置された偏光解消素子であって、
前記サブ波長構造体領域は使用する光の波長よりも短い周期で繰り返して配列された溝をもち、前記溝の配列方向である光学軸方向が隣接するサブ波長構造体領域間で異なる部分をもつように配置されており、かつ、
該偏光解消素子は前記溝として深さの異なるものを含んでいることを特徴とする偏光解消素子。
IPC (3件)：
G02B 5/30
, G02B 27/28
, H01L 21/027
G02B5/30
, G02B27/28 Z
, H01L21/30 515D
2H149AA21
, 2H149AB02
, 2H149BA06
, 2H149BA24
, 2H149BB28
, 2H149FA01Z
, 2H149FA41W
, 2H149FA42Z
, 2H149FA43W
, 2H149FA43Z
, 2H149FC10
, 2H199AB03
, 2H199AB05
, 2H199AB12
, 2H199AB41
, 2H199AB61
, 5F046CB23
, 5F046CB27
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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