特許

J-GLOBAL ID：201403026858350306

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 山本 敏 ,  市川 幸司 ,  西村 崇
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-174228
公開番号（公開出願番号）：特開2014-067015
出願日： 2013年08月26日
公開日（公表日）： 2014年04月17日
要約：

【課題】良好なラインエッジラフネスのレジストパターンを製造可能なレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂と、式(B1)で表される酸発生剤とを含有するレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂と、式(B1)で表される酸発生剤とを含有するレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  C08F 20/00 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F7/038 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 511 ,  C08F20/00 510 ,  H01L21/30 502R

Fターム (40件)：

2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA03 ,  2H096JA03 ,  2H125AE13P ,  2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF27P ,  2H125AF35P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF70P ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL02 ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC17 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-217965   出願人：富士フイルム株式会社
• 溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-057237   出願人：東京応化工業株式会社
• 溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-057959   出願人：東京応化工業株式会社
• パターン形成方法及びレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-116109   出願人：信越化学工業株式会社