特許
J-GLOBAL ID:201203043604677540
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高松 猛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-217965
公開番号(公開出願番号):特開2012-073401
出願日: 2010年09月28日
公開日(公表日): 2012年04月12日
要約:
【課題】ブリッジ前寸法等の解像力及び露光ラチチュードに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(A)、酸の作用により分解し、現像液に対する溶解性が変化する樹脂(B)、及び、活性光線又は放射線の照射により前記化合物(A)が発生する酸と、酸存在下で反応し、共有結合を形成する化合物(C)を含む、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物(但し、前記樹脂(B)と化合物(C)とは同一の化合物であっても良い)、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(A)、
酸の作用により分解し、現像液に対する溶解性が変化する樹脂(B)、及び、
活性光線又は放射線の照射により前記化合物(A)が発生する酸と、酸存在下で反応し、共有結合を形成する化合物(C)を含む、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。但し、前記樹脂(B)と化合物(C)とは同一の化合物であっても良い。
IPC (4件):
G03F 7/039
, G03F 7/38
, G03F 7/004
, H01L 21/027
FI (5件):
G03F7/039 601
, G03F7/38 501
, G03F7/004 501
, G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
Fターム (74件):
2H096DA10
, 2H125AC65
, 2H125AE06P
, 2H125AE07P
, 2H125AE08P
, 2H125AE12P
, 2H125AE13P
, 2H125AE18P
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF19P
, 2H125AF21P
, 2H125AF27P
, 2H125AF33P
, 2H125AF36P
, 2H125AF38P
, 2H125AF45P
, 2H125AF70P
, 2H125AH04
, 2H125AH05
, 2H125AH14
, 2H125AH15
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AH24
, 2H125AH29
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ18X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ66X
, 2H125AJ67X
, 2H125AJ69X
, 2H125AM09P
, 2H125AM12P
, 2H125AM13P
, 2H125AM22P
, 2H125AM23P
, 2H125AM27P
, 2H125AM30P
, 2H125AM43P
, 2H125AM86P
, 2H125AM99P
, 2H125AN08P
, 2H125AN11P
, 2H125AN19P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN45P
, 2H125AN51P
, 2H125AN54P
, 2H125AN57P
, 2H125AN58P
, 2H125AN62P
, 2H125AN63P
, 2H125AN65P
, 2H125AN82P
, 2H125AN86P
, 2H125AN88P
, 2H125BA01P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC01
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 2H125FA05
, 2H125FA23
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (1件)
-
化学大辞典9, 19640315, 第100ページ
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