特許
J-GLOBAL ID:201203043604677540

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高松 猛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-217965
公開番号(公開出願番号):特開2012-073401
出願日: 2010年09月28日
公開日(公表日): 2012年04月12日
要約:
【課題】ブリッジ前寸法等の解像力及び露光ラチチュードに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(A)、酸の作用により分解し、現像液に対する溶解性が変化する樹脂(B)、及び、活性光線又は放射線の照射により前記化合物(A)が発生する酸と、酸存在下で反応し、共有結合を形成する化合物(C)を含む、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物(但し、前記樹脂(B)と化合物(C)とは同一の化合物であっても良い)、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(A)、 酸の作用により分解し、現像液に対する溶解性が変化する樹脂(B)、及び、 活性光線又は放射線の照射により前記化合物(A)が発生する酸と、酸存在下で反応し、共有結合を形成する化合物(C)を含む、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。但し、前記樹脂(B)と化合物(C)とは同一の化合物であっても良い。
IPC (4件):
G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (5件):
G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (74件):
2H096DA10 ,  2H125AC65 ,  2H125AE06P ,  2H125AE07P ,  2H125AE08P ,  2H125AE12P ,  2H125AE13P ,  2H125AE18P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF21P ,  2H125AF27P ,  2H125AF33P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH05 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ67X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM09P ,  2H125AM12P ,  2H125AM13P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM30P ,  2H125AM43P ,  2H125AM86P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN11P ,  2H125AN19P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN51P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN58P ,  2H125AN62P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125AN82P ,  2H125AN86P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  2H125FA23
引用特許:
審査官引用 (10件)
全件表示
引用文献:
審査官引用 (1件)
  • 化学大辞典9, 19640315, 第100ページ

前のページに戻る