特許
J-GLOBAL ID:201403031267018560
近接場トランスデューサを備える装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人深見特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-125430
公開番号(公開出願番号):特開2014-010882
出願日: 2013年06月14日
公開日(公表日): 2014年01月20日
要約:
【課題】近接場トランスデューサ(NFT)を含む装置を提供する。【解決手段】磁気装置300は、近接場トランスデューサ(NFT310)と、NFT310に隣接する少なくとも1つのクラッド層315、320、325、330と、NFT310と少なくとも1つのクラッド層315,320、325、330との間に位置決めされる不連続金属層335とを含む。この不連続金属層により、NFT310を周囲のクラッド層315、320にしっかりと接着し、磁気装置の動作の間の故障を防止する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
装置であって、
近接場トランスデューサ(NFT)と、
前記NFTに隣接する少なくとも1つのクラッド層と、
前記NFTと前記少なくとも1つのクラッド層との間に位置決めされる不連続金属層とを備える、装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (8件):
5D033AA05
, 5D033BA71
, 5D033BA80
, 5D033BB51
, 5D033CA04
, 5D091AA10
, 5D091CC30
, 5D091HH20
引用特許:
出願人引用 (5件)
-
近接場光発生装置およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-291784
出願人:TDK株式会社
-
圧電薄膜素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-061099
出願人:日立電線株式会社
-
半導体素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-258271
出願人:キヤノン株式会社
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審査官引用 (5件)
-
近接場光発生装置およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-291784
出願人:TDK株式会社
-
圧電薄膜素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-061099
出願人:日立電線株式会社
-
半導体素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-258271
出願人:キヤノン株式会社
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